碳化硅粉体的制备及改性技术主要包括传统的化学法制备、物理法制备以及碳化硅的表面改性技术。 1.传统的化学法制备碳化硅粉体: 传统化学法包括共沉淀法、水热法、溶胶-凝胶法等。其中,共沉淀法是最常用的一种制备方法之一、该方法包括混合硅源和碳源,通过调节pH值和温度来控制反应过程,得到碳化硅粉体。共沉淀法制备...
在电子领域,碳化硅陶瓷常用于制备高功率电子器件的散热基板、IC封装、电极片等。碳化硅粉体可以制备高导热性的电子材料。在光电领域,碳化硅陶瓷可以制备高硬度、高光学透明性的光学材料、LED衬底等。碳化硅粉体可以制备高折射率、抗反射等特性的材料。在能源领域,碳化硅陶瓷被广泛应用于制备高温氧化物燃料电池、太阳能电池...
结构决定性能,越高的性能,就要求碳化硅材质显微结构的的精细化,因此其制备方法成为高性能碳化硅材料获取的关键。 一、碳化硅粉体的制备方法 碳化硅粉体的制备方法,既有传统的固相反应法,又有最新的溶胶-凝胶(sol-gel)法、激光法、等离子法,本文从大体上按气、固、液三项对常用的方法进行分类如下。 1.固相法 1.1....
在资本和技术升级的推动下，超高纯碳化硅的应用前景无疑将更加广阔。此外，即将在广州保利世贸博览馆2号馆举办的CAC广州先进陶瓷展同期会议上，绍兴晶彩科技有限公司的张磊博士将发表一场关于“超高纯碳化硅粉体制备及在半导体、高端特种陶瓷、热界面材料领域应用”的精彩报告。报告将深入探讨高纯碳化硅的结构特性、制备方...
“全国先进陶瓷与新能源产业创新发展论坛(6月14日)”上,绍兴晶彩科技有限公司总经理/创始人,哈工大的张磊博士将做题为“超高纯碳化硅粉体制备及在半导体、高端特种陶瓷、热界面材料领域应用”报告,重点介绍高纯碳化硅的结构特性、制备方法、产业化及其在碳化硅衬底、半导体陶瓷、高精密研磨以及热管理材料等诸多领域应用,...
一种高纯碳化硅粉体的制备方法.pdf,本发明公开了一种高纯碳化硅粉体的制备方法,包括以下步骤:(1)将高纯碳粉和高纯硅粉进行湿法混料,干燥后进行压制,形成混合料坯体;(2)将坯体在真空下升温至1000℃并保温1小时;然后升温至1500～1700℃并保温3小时;然后升温至1900℃并
1、电子领域:碳化硅化高纯粉体可用于制造半导体器件,电极和封装材料等方面。 2、机械制造领域:碳化硅化高纯粉体的高硬度和耐磨性可用于机械切削和磨合材料、轴承和凸轮等零部件的制造。 3、航空领域:碳化硅化高纯粉体可用于制造航空发动机喷嘴、燃烧室和涡轮叶片等零部件。 四、总...
碳化硅粉体的制备技术就其原始原料状态主要可以分为三大类:固相法、液相法和气 相法。 1.1 固相法 固相法主要有碳热还原法和硅碳直接反应法。碳热还原法又包括阿奇逊(Acheson)法、 竖式炉法和高温转炉法。SiC 粉体制备最初是采用 Acheson 法[2],用焦炭在高温下(2400 ℃ 左右)还原 SiO2 制备的,但此方法获得...
纳米碳化硅粉体的制备方法有很多种,目前应用较多的有溶胶-凝胶法、激光诱导气相反应合成法、热化学气相反应法、碳热还原法、等离子体法、微波加热法等。 01 溶胶-凝胶法 溶胶-凝胶法是将原料分散在溶剂中,然后经过水解反应生成活性单体,活性单体进行聚合,开始成为溶胶,进而生...
金融界2024年12月11日消息,国家知识产权局信息显示,绍兴晶彩科技有限公司申请一项名为“微波加热技术结合自悬浮碳热还原技术制备高纯纳米碳化硅粉体的方法”的专利,公开号CN 119100394 A,申请日期为2024年9月。 专利摘要显示,微波加热技术结合自悬浮碳热还原技术制备高纯纳米碳化硅粉体的方法,它涉及高纯纳米碳化硅陶瓷粉...