反应磁控溅射因其材料适应性广、薄膜性能优异、工艺灵活性高以及环保高效等优势，成为沉积化合物薄膜的主要...
采用中频反应磁控溅射技术沉积氮化锆薄膜
中频溅射孪生对靶氮化锆薄膜采用中频反应磁控溅射技术沉积ZrN薄膜,在真空镀膜机内对称安 装了3对矩形孪生靶.利用等离子体发射光谱和质谱仪QMS200分别实时监控真空炉内靶材表面的谱线变化和各种气氛的分压强,并通过控制系统氮气流量自动 调控,从而消除了靶中毒和打火现象,确保了溅射镀膜的稳定进行.通过对氮化锆膜层的显微...
项目地点:江苏省,苏州市 受苏州第三代半导体技术国创中心的委托,就其高精密多层膜沉积设备(反应磁控溅射设备)进行国内公开招标。欢迎有资格的投标单位前来参加投标。 一、招标编号:SZCJ2024-S-G-212号 二、项目名称:高精密多层膜沉积设备(反应磁控溅射设备) 三、投标单位应当具备下列一般条件: 1.具有独立承担民事责...
(3) 反应磁控溅射沉积过程中基板升温较小,而且制膜过程中通常也不要求对基板进行高温加热,因此对基板...
受苏州第三代半导体技术国创中心的委托,就其高精密多层膜沉积设备(反应磁控溅射设备)进行国内公开招标。欢迎有资格的投标单位前来参加投标。 一、招标编号:SZCJ2024-S-G-212号 二、项目名称:高精密多层膜沉积设备(反应磁控溅射设备) 三、投标单位应当具备下列一般条件: 1.具有独立承担民事责任的能力; 2.具有良好的...