通过调节薄膜的组成来调控薄膜特性.(3) 反应磁控溅射沉积过程中基板升温较小,而且制膜过程中通常也不要求对基板进行高温加热,因此对基板材料的限制较少.(4) 反应磁控溅射适于制备大面积均匀薄膜,并能实现单机年产上百万平方米镀膜的工业化生产. 但是在沉积介电材料或绝缘材料化合物薄膜的反应磁控溅射时,容易出现
采用中频反应磁控溅射技术沉积氮化锆薄膜
PEM的基本思想是磁控溅射辉光等离子体中的某些特征光谱的强度可以线性表征溅射靶面的工作状况,以金属模式下的金属溅射辉光强度为基准,通过监测这些特征光谱在反应溅射时的强度变化可以即时了解靶面的中毒程度,再配以高响应速度的反应气体流量控制器,使反应溅射可以人为稳定在过渡模式中的任何一个工作点且有较高的反应沉积速...
(4) 反应磁控溅射适于制备大面积均匀薄膜,并能实现单机年产上百万平方米镀膜的工业化生产. 但是在沉积...