共溅射沉积例句>> 2) Sputtering [英]['spʌtə] [美]['spʌtɚ] 溅射沉积 1. A systematic methodology has been proposed to investigate the feasibility of the manufacture of ?3" double-sided YBCO thin films by inverted cylindrical sputtering(ICS) with bi-axial substrate rotation. 在...
用射频共溅射沉积和脉冲激光退火后处理方法在硅(100)上成功制备了厚约100nm的Si<,1-x-y>Ge<,x>C<,y>三元半导体合金薄膜.应用傅立叶变换红外光谱(FTIR)和X射线衍射(XRD)研究激光退火条件对薄膜结构的影响.在激光能量密度1.0J/cm<'2>附近两个脉冲下退火,样品结晶质量较好,而且相当一部分C原子固定在替代位置...
摘要 通过双靶磁控溅射共沉积法,在硅(100)和康宁玻璃基片上制备了一系列不同Co 含量(原子含量0~2712%)的V -C -Co 薄膜,并分别用扫描电子显微镜及其附带的X 射线能谱仪分析了薄膜的生长结构及成分,用X 射线衍射仪分析了薄膜的相组成,用纳米压痕仪分析了薄膜的力学性能。结果表明,Co 在V -C -Co 中以非晶...
镀膜方式有直流直位、射频直位溅射镀膜,多靶位直流共溅镀膜,以及离子束沉积镀膜。 仪器参数 极限真空度:≤6.67x10-6Pa (经烘烤除气后); 系统真空检漏漏率:≤5.0x10-7Pa.l/S; 系统短时间暴露大气并充干燥氮气后,再开始抽气,40分钟可达到6.6x10-4Pa; 停泵关机12小时后真空度:≤5 Pa 猜您需要 查看更多>...
溅射沉积薄膜:形态和微结构51、没有哪个社会可以制订一部永远适用的宪法,甚至一条永远适用的法律。——杰斐逊52、法律源于人的自卫本能。——英格索尔53、人们通常会发现,法律就是这样一种的网,触犯法律的人,小的可以穿网而过,大的可以破溅射沉积薄膜:形态和微结构51、没有哪个社会可以制订一部永远适用的宪法,甚至...
将显影后的基片放入多靶共溅磁控溅射腔体中,分别装上金属铬与金靶材。 在真空度小于1.0×10^-3Pa的条件下,先溅射沉积铬层厚度为5nm～200nm,再溅射沉积铬、金合金层厚度为3nm～200nm 电镀过程: 预处理:包括脱脂除油、水洗、酸洗活化等前处理工序 发布于 2024-07-23 10:33・IP 属地北京 ...
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磁控溅射沉积系统(Magnetron sputtering deposition system) 所在单位:常州工学院 品牌/型号:沈阳科学仪器研制中心有限公司,JGP-560B 所在地区:江苏省 仪器说明:我们目前尚未与常州工学院提供的该仪器进行进一步的对接。如果您需要使用该仪器,建议您联系相关单位,以确定是否可以对外开放。您也可以通过点击此处提交需求,委托...
5溅射沉积(溅射):用高能粒子轰击靶材,使靶材中的原子溅射出来,沉积在基底表面形成薄膜的方法。 6离子镀:在镀膜的同时,采用带能离子轰击基片表面和膜层的镀膜技术。 7外延:在单晶衬底上生长同类单晶体(同质外延),或者生长具有共格或半共格异类单晶体抑制外延的技术。 8同质外延:外延层与衬底...
5溅射沉积(溅射):用高能粒子轰击靶材,使靶材中的原子溅射出来,沉积在基底表面形成薄膜的方法。 6离子镀:在镀膜的同时,采用带能离子轰击基片表面和膜层的镀膜技术。 7外延:在单晶衬底上生长同类单晶体(同质外延),或者生长具有共格或半共格异类单晶体抑制外延的技术。 8同质外延:外延层与衬底具有...