光刻机按光源类型可分为五类:I-line光刻机、KrF光刻机、ArF光刻机、ArFi光刻机(即ArF浸没式光刻机,与ArF光刻机相比在曝光过程中在投影物镜和晶圆之间放置了一层水膜)、EUV光刻机。按照应用领域可分为IC前道光刻机和IC后道光刻机。其中,IC前道光刻机主要应用于芯片制造,而后道光刻机主要用于芯片封装。
### 四、特殊类型光刻机除了上述主流分类外，还有一些特殊类型的光刻机，如激光直写光刻机、电子束光刻机、离子束光刻机等。这些光刻机各有其独特的应用场景和技术优势。例如，激光直写光刻机利用激光束直接在晶圆表面绘制图案，无需掩模版，适用于小批量、多品种的生产需求；电子束光刻机和离子束光刻机则以...
这种光刻机采用了缩小投影镜头,这意味着它能够在硅片上形成比掩模图形更小的图像,曝光比例大于1:1,例如5:1的缩小率,这意味着掩模上的大图案可以精确地缩放到硅片上极小的特征尺寸,这对于实现更细小、更密集的电路布局至关重要,从而推动了集成电路芯片制程节点的不断微缩。 2.双工作台系统: 在传统的单工作台光...
光刻机主要分为步进投影光刻机和扫描投影光刻机两种。步进投影光刻机通过透镜系统将掩模上的图案逐个投影到基底上,每次曝光一个小区域后,基底会移动到下一个位置,直到整个基片都被曝光。而扫描投影光刻机则是在曝光过程中,掩膜版和晶圆在相互垂直的方向上同步移动,以增大每次曝光的视场,并提高整个硅片的尺寸均匀性。
光刻机的分类。#光刻机 1.按照有无掩膜光刻机可分为有掩膜光刻机和无掩模光刻机,有掩膜光刻机目前 为产业广泛应用,历经 5 代已发展至 EUV 光刻机。(1)无掩模光刻:又称直写光刻机,分为电子束直写光刻、激光直写光刻、离子束 直写光刻,灵活性高但生产效率较低,一般用于集成电路器件原型的研制验证制作、...
光刻设备的基本分类 光刻设备主要分为两大类:前道光刻机与后道光刻机,它们分别对应芯片制造的不同环节。 前道光刻机:主要用于芯片的制造过程,是芯片形成电路图案的关键步骤。这一类光刻机处理的是晶圆上的细微电路布局,要求极高精度与复杂曝光技术,如深紫外光(DUV)光刻机和极紫外光(EUV)光刻机。其中,EUV光刻...
根据使用的光源和曝光方式,光刻机可以被分为以下几类: 1.紫外光刻机:使用波长为365nm或248nm的紫外光源,通过遮光板或光掩膜进行曝光。紫外光刻机是目前最常用的光刻机之一,可用于生产各种半导体器件。 2.接触式和非接触式光刻机:根据曝光方式的不同,光刻机可以分为接触式和非接触式两种。接触式光刻机使用...
光刻机可以根据不同的标准进行分类。一种常见的分类方式是基于其使用场景和用途，可以将光刻机分为接近接触式、直写式和投影式三大类。1. 接近接触式光刻机通过无限靠近掩模板，复制其上的图案。2. 投影式光刻机采用投影物镜，将掩模板上的结构投影到基片表面。这种光刻机曝光成像的原理与照相机相似，但记录介质...
一、光刻机的分类 光刻机是一种精密制造设备,主要用于制造微电子器件。根据技术原理和适用领域的不同,光刻机主要分为: 1. 掩模对准光刻机:采用光刻胶、掩膜等材料制作器件,适用于半导体、集成电路制造等领域。 2. 直写式光刻机:可以直接将图案写在芯片表面,适用于微纳米制造领域。 3. 深紫外(D...