靶材（Target Material）是溅射工艺中的关键材料。其作用是通过高能离子轰击，将靶材原子或分子剥离并转移到衬底表面，形成特定功能的薄膜。(1) 靶材在溅射工艺中的功能 作为粒子轰击的目标材料：溅射工艺中，高能离子（通常为氩离子）撞击靶材表面，使靶材原子脱离并迁移到衬底上。决定薄膜性能：靶材材料的纯度和成分直接...
金属靶材:如铜靶、铝靶、钨靶等,具有良好的导电性和导热性,在电子行业中应用广泛。 合金靶材:通过调整成分比例,可以获得特定的性能,满足不同的应用需求。 陶瓷靶材:具有良好的绝缘性能和耐高温性能,适用于一些特殊的环境。 化合物靶材:如ITO(氧化铟锡)、氮化铝等,具有独特的光学和电学特性,在特定的领域有着不可...
氧化物靶材：这类靶材包括氧化铝、氧化锌等，它们主要用于制备具有特殊电学和光学性质的薄膜。氧化物靶材在半导体和光伏行业中尤为重要，因为它们能制备出具有高介电常数、特殊光学性质或者特定电导性的薄膜。这些氧化物薄膜在传感器、光伏电池和显示技术中有广泛应用。合金靶材：合金靶材是由两种或多种金属元素按照一定比例...
1. 定义：靶材（又称溅射靶材）是物理气相沉积（PVD）技术的关键耗材，通过溅射工艺将靶材原子沉积在基板上，形成导电、绝缘或光学薄膜。其纯度通常高达99.95%以上，部分半导体领域要求达到99.9999%（6N）级别。2. 分类 按材质：金属靶材（Cu、Al、Ti等）、合金靶材（NiCr、CuInGaSe）、陶瓷靶材（SiO₂、Al₂...
靶材，也称为溅射靶材，是高速荷能粒子轰击的目标材料。通过不同的激光（离子光束）和不同的靶材相互作用得到不同的膜系，实现导电和阻挡的功能。靶材由“靶坯”和“背板”组成，靶坯是由高纯金属制作而来，是高速离子束流轰击的目标；背板通过焊接工艺和靶坯连接，起到固定靶坯的作用，并且背板需要具备导热导电性...
靶材在科学研究和工业生产中应用广泛。在科学研究中,靶材主要用于材料的研究,例如,超导材料的制备和性质研究,以及各界科研工作者对材料结构、性质、变化规律等方向的研究。而在工业生产中,靶材主要用于半导体晶体管、太阳能电池、显示器、激光以及薄膜材料的制备等领域。 三、靶材的优势是什么? 靶材制备具有精度高...
靶材是用于研究材料的性质及制备薄膜的材料。它通常是一个纯度极高的块材料,可以是金属、化合物、半导体、陶瓷、玻璃等。通过高能粒子轰击靶材,可以产生所需的原子或分子流,用于制备薄膜或研究材料性质。 二、 靶材的制备过程 靶材通常需要制备出高纯度、高密度的块材料,制备过程包括原料准备、制备块材料、加工成靶材...
靶坯是高速离子束流轰击的目标材料，属于溅射靶材的核心部分，涉及高纯金属、晶粒取向调控。在溅射镀膜过程中，靶坯被离子撞击后，其表面原子被溅射飞散出来并沉积于基板上制成电子薄膜。背板主要起到固定溅射靶材的作用，涉及焊接工艺。 按材质分类，靶材可分为常规金属靶材，贵金属靶材，稀土金属靶材，非金属靶材，...