一、抛光前的准备工作 在进行抛光之前,首先要对单晶锗的表面进行清洁,去除表面的污垢和油脂。这一步骤非常重要,因为它能确保抛光过程中的均匀性和效果。 二、选择合适的抛光方法 1. 机械抛光:通过使用不同粒度的抛光粉和抛光布轮,对单晶锗表面进行细致的打磨,逐渐去除划伤的痕...
单晶锗抛光用的常见抛光粉主要有三种,分别是氧化铈(CeO2)、氧化铝(Al2O3)和氧化钆(Gd2O3)。其中,氧化铈是最常用的一种抛光粉,因为它具有较高的抛光效率、抛光速度快、抛光表面光洁度好的特点。氧化铝和氧化钆的抛光效率也较高,但抛光速度相对较慢,表面粗糙度略高一些。 产品参数 牌号 包装规格...
1.一种用于抛光锗单晶的抛光液,包括粗抛光液和精抛光液,其特征在于,所述粗抛光液以W1钻石膏为原料,先加入去离子水溶解稀释并冷却后,再加入硝酸调节pH值至1~6得到,其中W1钻石膏和去离子水的质量体积比为1~4 g:900~2100 mL;所述精抛光液以胶体SiO 2 为原料,加入硝酸调节pH值至1~6得到。 2.根据权利要求...
v 我们生产加工锗单晶抛光晶片晶圆 直径100mm 型号n or p or 本征 晶向<111><100><110> 4英寸锗单晶抛光晶片,6英寸锗单晶抛光晶片晶圆仪表 »仪器仪表配附件 »其他仪器仪表配附件 » 厦门其他仪器仪表配附件 我们其他产品 铝塑复合膜气体采样袋2024-07-26 Kynar PVDF气体采样袋2024-07-26 EVOH —旋塞...
本方法采用锗单晶抛光片清洗液对锗单晶抛光片进行清洗,清洗过程分为浸泡清洗、溢流清洗以及快排冲洗三个步骤,锗单晶抛光片清洗液是由氢氟酸溶液、氧化剂溶液、去离子水三种成分组成的混合溶液;其体积比为(300-500):(5-20):8000。采用本方法清洗锗片,可去除锗抛光片表面吸附的颗粒、有机物以及金属离子;锗片表面的...
苏州楷恒金属材料有限公司 查看详情 ￥25.00/片 北京 单晶锗回收 废光伏硅片抛光片 多晶太阳能硅片 当面交易 臻苏新能源 臻苏品牌 上海臻苏新能源科技有限公司 2年 “锗单晶 抛光片”的结果有点少,为您展示“抛光片”的结果,您也可直接去问我~ 去提问 ...
高纯单晶锗(Ge) 规格:单晶,面,5-40欧,p型,10mm×1mm 透过波长:2000—20000nm 所有窗口片/基片/镀膜片做到光学级抛光,接受尺寸定制。方片较圆片加工难度大增,价格相应较贵,请亲们理解。 抛光参数大致如下: 尺寸公差:+0/-0.1 厚度公差:±0.1 表面粗糙度:～nm量级,有特殊要求(如亚纳米级),请联系。 平行度...
本发明公开了一种锗单晶抛光片的清洗方法.本方法采用锗单晶抛光片清洗液对锗单晶抛光片进行清洗,清洗过程分为浸泡清洗,溢流清洗以及快排冲洗三个步骤,锗单晶抛光片清洗液是由氢氟酸溶液,氧化剂溶液,去离子水三种成分组成的混合溶液;其体积比为(300-500):(5-20):8000.采用本方法清洗锗片,可去除锗抛光片表面吸附的...
本发明提供一种锗单晶单面抛光片的清洗工艺,锗单晶单面抛光片采用背面贴UV膜粗抛,后揭掉晶片背面的UV膜,然后两次浸泡浓硫酸去除锗单晶单面抛光片边缘的残胶沾污,再进行精抛,精抛后采用氢氧化钾溶液清洗,最后采用SC‑1液清洗的方式,有效的去除了锗单晶单面抛光片的表面沾污,达到了免清洗开盒即用的表面要求,极大...