脉冲激光沉积系统 脉冲激光沉积系统是一种用于化学领域的工艺试验仪器，于2014年03月06日启用。技术指标 温度800℃，极限真空度6.67*10-6 Pa。主要功能 提供真空及加热环境，薄膜沉积。
脉冲激光沉积(PLD)是用于薄膜沉积的通用工艺,其主要优点是将材料按化学计量从靶转移到基板。SURFACE PLD-Workstation是薄膜的优秀原型设计和研究系统,可轻松获取新材料,特别是复杂氧化层。 PLD-Workstation将PLD系统的所有组件(包括激光和激光气体供应)集成到一个框架中。紧凑的设计使系统的使用灵活,并避免了许多硬件安...
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脉冲激光沉积系统为一种在化学领域进行应用的工艺试验仪器。脉冲激光沉积,又被叫做脉冲激光烧蚀,为一种通过激光轰击物体,之后在不同的衬底上沉淀轰击出来的物质,使沉淀或者薄膜获得的一种手段。 目录 1.脉冲激光沉积系统2.脉冲激光沉积系统最新文章3.脉冲激光沉积系统概述 ...
脉冲激光气相沉积系统是一种用于材料科学、机械工程领域的计量仪器，于2014年12月01日启用。技术指标 真空腔的配置：包括气相沉积腔和预真空腔；气相沉积腔的腔体直径为18”，并配有多个6”端口以利于系统升级；所有真空腔均采用涡轮分子泵与无油机械泵。气相沉积腔配有外置烘烤配件。；；真空度：气相沉积腔本底真空...
如LED、激光二极管等。此外，PLD技术在半导体领域的应用占比已超过全球市场规模的一半，并且预计未来几年将持续增长。埃伯仪器是专业的真空薄膜制备解决方案供应商，主要产品有分子束外延系统（MBE）、 脉冲激光沉积系统（PLD)、 反射式高能电子衍射仪（RHEED)、蒸发源、 电子枪、离子枪等！
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脉冲激光沉积真空系统是一种用于化学、材料科学、冶金工程技术、物理学领域的工艺试验仪器，于2008年12月31日启用。技术指标 制备室极限真空优于5.0x10-8Pa；多靶沉积 4个2”；衬底加热温度 1000度；进样室极限真空1.0x10-5Pa；沉积均匀性5%。主要功能 通过控制镀膜压力和温度，可以合成一系列具有独特功能的...