脉冲激光沉积和磁控溅射双模式沉积系统是一种用于物理学领域的工艺试验仪器，于2014年7月29日启用。技术指标 本底真空度10（-8）Torr；3/6 PLD 靶材 和 2个溅射靶源； 直径50mm 沉积衬底可旋转，可加热至900度； 氧气和氩气流量可控制等。主要功能 系统真空腔室中可完成PLD和测控溅射两个方式沉积镀膜。
PLD-450型脉冲激光溅射沉积系统型号:PLD-450 JGF600购入时间:2007.09.价格:880000制造厂家:沈阳科学仪器研制中心公司安置地点:新校区 G209室所在单位:理学院物理系所在地址:上海上大路 99号联系人:蔡传兵联系电话器简介:PLD-450型脉冲激光溅射沉积系统是由中科院沈阳科学仪器厂生产。包括真空腔体、衬 底加热器、反射式...
联系方式 :0769-22898732 :18856035042 正文内容 一、合同编号: 0809-24411DGG104012001 二、合同名称: 大湾区大学(筹)高真空多靶磁控溅射系统、脉冲激光沉积系统采购项目 三、项目编号: 0809-24411DGG104012001 四、项目名称: 大湾区大学(筹)高真空多靶磁控溅射系统、脉冲激光沉积系统采购项目 五、合同主体 采...
一、采购人 大湾区大学(筹) 二、采购计划编号 *** 本招标项目仅供正式会员查看,您的权限不能浏览详细信息,请点击注册/登录,联系工作人员办理入网升级。 联系人:陈经理 电话:010-83551561 手机:13717815020(欢迎拨打手机/微信同号) 邮箱:kefu@gdtzb.com QQ:1571675411...
主要标的名称:脉冲激光沉积与磁控溅射联合的量子材料原位生长系统 规格型号(或服务要求):矩阵科技 主要标的数量:1 主要标的单价:3600000 合同金额: 360.000000万元 履约期限、地点等简要信息:合同签订后150天 采购方式: 公开招标 七、合同签订日期: 2022-12-20 八、合同公告日期: 2022-12-20 九、其他补充事宜: ...
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正文内容: 公告内容:大湾区大学(筹)高真空多靶磁控溅射系统、脉冲激光沉积系统采购项目结果公告一、项目编号:0809-24411DGG104012001二、项目名称:大湾区大学(筹)高真空多靶磁控溅射系统、脉冲激光沉积系统采购项目三、采购结果合同包1(1):供应商名称供应商地址中标(成交)金额重庆眺望科技有限公司龙溪街道红金路55号1幢...
正文内容: 公告内容:大湾区大学(筹)高真空多靶磁控溅射系统、脉冲激光沉积系统采购项目结果公告一、项目编号:0809-24411DGG104012001二、项目名称:大湾区大学(筹)高真空多靶磁控溅射系统、脉冲激光沉积系统采购项目三、采购结果合同包1(1):供应商名称供应商地址中标(成交)金额重庆眺望科技有限公司龙溪街道红金路55号1幢...
大湾区大学(筹)高真空多靶磁控溅射系统、脉冲激光沉积系统采购项目 441901-2024-09477 一、采购人: 大湾区大学(筹) 二、采购计划编号: 441901-2024-09477 三、采购计划名称: 大湾区大学(筹)高真空多靶磁控溅射系统、脉冲激光沉积系统采购项目 四、采购品目名称: 教学仪器,教学仪器 五、采购预算金额(元):...