光源波长不同、曝光分辨率不同。1、深紫外光刻机使用的是准分子激光，氟化氢激光，其波长范围在200-300纳米之间。而极紫外光刻机则使用的是极紫外光源，其波长范围在10-121纳米之间。2、深紫外光刻机和极紫外光刻机的曝光分辨率也有所不同。由于极紫外光的波长更短，因此其曝光分辨率更高，可以制造出更精细的芯片结构。
DUV光刻：半导体工业的"中流砥柱"深紫外光刻(DUV)使用193nm波长的光源，是目前应用最广泛的光刻技术。它就像一位经验丰富的老匠人，稳定可靠地支撑着从28nm到部分7nm工艺的芯片生产。DUV技术成熟、设备维护成本相对较低，在内存、传感器等中端芯片制造领域仍占据主导地位。但DUV也有其局限性：193nm的波长在应对7nm以下...
紫外光、深紫外光、极紫外光及X射线光源在工业生产中扮演着重要角色。它们分别适用于不同的材料检测、光刻、杀菌及科研领域。紫外光源多用于表面检测,深紫外则用于更精细的光刻工艺,极紫外光适用于高端半导体制造,而X射线则广泛应用于医疗、安检及材料内部结构分析。作为B2B买家,您可能关注光源的稳定性、波长范围及使用...
1.波长不同 深紫外光刻机使用的波长为248nm,而极紫外光技术则使用的波长为13.5nm,因此极紫外光技术具有更高的分辨率和更大的潜力来制造超大规模集成电路。 2.设备成本不同 极紫外光技术是一种全新的技术,设备成本和开发成本都高于深紫外光刻机。目前,只有少数公司具备开发极...
不要被假象催眠。依然有深紫外（DUV）光刻，这个技术多早以前就有人掌握。荷兰的阿斯麦、日本的佳能、尼康都能生产这个。我们拿到的是最新的技术改良版。不是因为EUV（极紫外）搞定7纳米，而是利用多次曝光，叠加封装，把性能推向了5纳米。这背后，是不断优化的工艺，是科技的实际进步。这就像打一场持久战，接下来...
目前,极紫外光源的成本比深紫外光源高出很多,这也是制约它在应用中推广的一个因素。而深紫外光源则相对便宜,应用广泛。 五、光刻机的类型 深紫外光源主要应用于传统的光刻机中,而极紫外光源则需要使用新型的EUV光刻机。 综上所述,深紫外光源和极紫外光源在波长、光源类型、应用领...
2024年工信部《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录》中列出的光刻机为DUV深紫外光刻机,例如分辨率≤65nm的氟化氩光刻机,最高支持28nm制程。而EUV光刻机因技术复杂度远超DUV,EUV光刻机涉及光源、物镜、双工作台等数十万个精密组件,目前中国仅在光源等部分环节实现突破
深紫外线和极紫外线是生产芯片时常用在硅晶片上雕刻的光,深紫外线的波长为193nm,极紫外线的波长为13.5nm。下列说法正确的是( )A. 极紫外线的频率小于深紫外线的
生产芯片的工具是紫外光刻机,目前有DUV和EUV两种。DUV光刻机使用的是深紫外线,其波长为193nm。EUV光刻机使用的是极紫外线,其波长是13.5nm。下列说法正确的
目前比较常见的深紫外激光器的波长是在193纳米,但是使用了KBBF晶体的激光器波长在150纳米左右。而这类晶体用途最让人熟知的就是光刻机了。光刻机是现代工业的顶峰之一,采用的激光波长越短,那么精度也会越高。 极紫外光能够电离几乎所有的组成普通物质的原子和分子的特性使得它无法在普通物质(包括空气)中传播,只能...