对大部分双束FIB而言,扫描电子束和聚焦离子束都能形成二次电子像。但前者成像较清晰,后者成像对比度更优。 聚焦离子束加工中是利用电子束曝光中常用的“十”字检测标记凹槽,台阶处的二次电子远比平面上逸出多的原理来进行对准操作。 聚焦离子束在扫描标记成像时会腐蚀标记,在电子束曝光系统上是不存在的。标记的腐...
1. 物理特性不同:电子束是带电粒子流动产生的,带有电荷,能够进行较高速度的运动,电子束的穿透能力较强。而光束则不带电荷,是由光子形成的,速度比电子慢,透射能力相对较弱。 2. 传输方式不同:电子束的传输距离较短,常用于磁控电子显微镜等应用中;光束则可在真空中或介质中传输较远,常用于光学显微镜等领域。 3...
相比激光，金属3D打印的电子束路线整体性能更优越。但由于电子束需要真空环境，这一技术路线研发难度更大，一段时间以来发展也相对滞后。在这条路线上，清华大学和清研智束团队已潜心摸索、艰苦攻关20年。2004年，团队成员在清华大学成功研发电子束选区熔化技术；2015年，清研智束注册成立；2017年，自主开发第一代商业化...
电子束曝光(electron beam lithography)指使用电子束在表面上制造图样的工艺,是光刻技术的延伸应用。光刻技术的精度受到光子在波长尺度上的散射影响。使用的光波长越短,光刻能够达到的精度越高。电子束技术在半导体制造行业一直是重要的应用技术。本文就电子束技术作一个简单的图文介绍。
蔡司公司是EUV光刻机唯一的光学镜头供应商，多项顶尖且复杂的技术需求，才导致EUV光刻机产量的不足，而电子束采用的是电子刻蚀，并非采用光源，因此是不需要光学镜头的。因此整体而言，搭载电子束技术的测量设备及检测设备，不仅能够有效地控制成本，还能有效的保证芯片的良品率，同时在精准度上也将大大提升，而详细...
本文介绍了电子束束闸(Electron beam blanker)光学系统。 束闸(Blanker)是用于电子束光刻镜筒的一个关键组成部分。为了曝光更小的特征并改善线宽控制,需要减小地址(像素)大小。一种对吞吐量影响最小的方法是在保证相应的增加的束流密度可以补偿每个像素的缩短停...
1、电子束、离子束、激光束是表面工程领域内的三大载体,号称三束改性。都具有高能量密度 特性。顾名思义电,子束加工是以激发电子作为载体,离子束则以离子。离子束加工是一种元素 注入过程,具有辐照损伤、喷丸作用、表面压缩、形成表面非晶态,形成弥散化合物质点等 效应,而电子束与激光束的主要作用在高能量,没有...
电子束技术又简称为“EB技术”，是一项民用非动力核技术。目前常见的电子束应用是利用核心装置——电子加速器将电子加速至接近光速，并利用电场和磁场使其精准成束地投射到指定位置以实现电子或物质的相互作用，从而引发化学反应以改善材料的性能、型态或生成具备不同功能新材料。电子束技术是一项应用广泛的基础共性技术...
1、电子束技术或成为EUV替代品 电子束技术，作为光刻机的核心设备之一，一直以来都是半导体产业相关公司竞相争夺的核心技术之一。由于光刻机制造所依赖的硅基材料发明源自美国，因此一些基础技术和核心专利都掌握在美企手中，即使是大型企业如台积电、ASML、三星等企业也无法摆脱对包括美国在内的技术的依赖。因此，在...