热沉积(EBE – 电子束蒸发)是最常见和最古老的光学镀膜工艺,用于镀膜光学基材。具有涂层材料种类多、基材形状灵活、品质高和性价比高等优势。 在蒸发过程中,材料在 10 -4的真空室中被蒸发,mbar 可以通过高温或用电子束敲除,根据材料特性(例如熔点)和光学规格选择合适的光学镀膜工艺。要蒸发的材料位于真空室底部的合...
当前集成Cu金属化和电介质材料的集成方案可能需要在约400℃-约500℃或更低的衬底温度下进行阻挡层/衬里沉积工艺。 在半导体工业中,热化学气相沉积(TVCD)是一种特别吸引人的用于在衬底上形成薄层的方法,因为该方法具有易于控制薄层组成的能力,并具有形成薄层而不污染或损坏衬底的能力。TVCD还可以用于将所希望的薄层...
(2) 工艺和机床故障:这些异常是由于错误的工艺参数和/或工作条件引起的。工艺和机床故障通常由异常参数和机床设置引起。由于DED可同时“传输”激光功率和材料粉末,因此必须满足以下几点考虑,才能成功地将材料沉积到基板上。粉末输送系统提供设计自由,无需支撑;然而,粉末的流动特性会影响零件的结构完整性。DED还存在与激...
以激光和焦耳热为热源,选用直径为0.3 mm的TC4钛合金细丝为沉积材料,首先通过焦耳电流预热金属丝,然后以低功率激光加热形成小尺寸熔池,随着基板的运动,金属丝被持续送入熔池并稳定沉积。通过单道沉积试验,研究了工艺参数对单道沉积层几何特征的影响规律。 结果表明:当激光功率在50～200 W、送丝速度在60～360 mm/min...
这种组织和性能表现出的横纵各向差异主要与激光沉积时的生长方式有关。2.3 热处理工艺对显微组织的影响 相同激光功率沉积（7.4kW），不同温度固溶并经相同时效工艺处理后，所对应的TC11钛合金不同截面的显微组织如图5 所示。由图5中可见，显微组织主要由相互交织成网篮状的针条状初生αp和与其成90毅相位角的细小...
然而,过高的加热温度可能导致材料的氧化和热应力等问题。因此,在选择加热温度时需要考虑材料的熔点以及所制备产品的要求。一些常见的加热温度范围为1000-1500摄氏度。 在选择熔融沉积成型工艺参数时,需要综合考虑产品的要求、设备和材料的性能以及制备时间等因素。此外,也可以通过实验和模拟等方法对不同工艺参数进行优化和...
摘要 本发明公开了一种基于神经网络的感应热沉积钙磷涂层工艺预测方法,包括:利用感应热沉积法制备钙磷涂层,采集测试样本;利用测试样本拟合出训练样本;建立BP神经网络,采用Levenberg‑Marquardt算法,利用训练样本训练网络,并用测试样本测试网络的泛化能力;设计正交水平的工艺参数作为输入参数,利用训练好的网络仿真输出参数,...
研究了热塑态微粒沉积工艺参数对涂层构型与组织的影响规律,并通过正交实验确定最优的喷涂参数。然后探究“网状构型”MCrAlY-CeO2复合粉末到“准连续网状构型”MCrAlY-CeO2复合涂层的构效关系,并分析涂层的微观组织及力学性能。最后在上述的基础上,探究MCrAlY-CeO2涂层与高温氧化性能间的构效关系,并进一步分析MCrAlY涂层...
研究人员在热源下方对应的Si C衬底背面刻蚀深孔,然后通过MPCVD技术将金刚石的颗粒沉积在孔中,图4为选择性生长的金刚石孔SEM图,之后使用基于氧的等离子体刻蚀工艺去除其他区域的金刚石薄膜,通过这种方式不断增加孔中的金刚石厚度。该方法可以有效减小金刚石在GaN上生长的热应力不匹配问题,减小晶圆的翘曲,使热点局部微米...
工艺参数主要包括分层厚度、光斑直径、加热温度等方面。 分层厚度是熔融沉积成型工艺中一个非常重要的参数,它决定了涂层的厚度和质量。分层厚度大小一般在10-100微米之间,可以根据不同工件要求进行调整。分层厚度不足时,涂层的热稳定性和机械性能较差;分层厚度过大时,涂层易于龟裂并且影响制品外观质量。 光斑直径是另一...