CMP 全称为 Chemical Mechanical Polishing,即化学机械抛光,是机械削磨和化学腐蚀的组合技术,借助超微离子研磨作用以及浆料的化学腐蚀作用在被研磨的介质表面上形成光洁的平面。在传统抛光方法中,机械抛光研磨一致性好,表面平整度高,研磨效率高容易出现表面层损伤,表面粗糙度比较高;化学抛光表面精度高、损伤低、完整...
04. 超声波抛光 超声波抛光是将零件放入磨料悬浮液中并一起置于超声波场中,依靠超声波的振荡作用,使磨料在工件表面磨削抛光。超声波加工宏观力小,不会引起工件变形,但工装制作和安装较困难。 抛光中使用的磨料有尺寸为200~2000目的氧化铝、碳化硼、碳化硅及金刚砂粉末等。粉末越细,抛光出来的表面越光滑。例如,用...
机械抛光是通过切削和材料表面的塑性变形去除凸起部分以获得光滑表面的抛光方法。 一般使用磨石棒、羊毛轮和砂纸进行抛光,主要是手工操作。 在抛光旋转物体等特殊零件的表面时,可以使用转盘等辅助工具。 如果对表面质量要求很高,可以选择超精密抛光进行抛光。 超精密抛光,当工具在含有磨料的抛光液中紧压工件表面时,使用专...
——是一种抛光去毛刺工艺,又称为流体抛光,是使磨粒流通过零件的某些部位,对通道面和边角进行去毛刺、抛光和倒圆的过程,还能够起到清洁和润滑的作用,有助于降低表面摩擦、防止过热,作业时需要用流体搅拌装置和专用抛光机设备。 主要针对内孔、微细孔、不规则形状、球面曲面、齿轮等,以效率高、抛光去毛刺彻底、不...
抛光工艺主要有:机械抛光、化学抛光、电解抛光、纳米抛光、超声波抛光、磁流变抛光等。 机械抛光 ▍机械抛光:靠切削、材料表面塑性变形去掉被抛光后的凸部而得到平滑面,一般使用油石条、羊毛轮、砂纸等,以手工操作为主,需在专用抛光机上进行,抛光机主要由一个电动机和被带动的一个或...
两者的主要区别在于:抛光达到的表面光洁度要比研磨更高,并且可以采用化学或者电化学的方法,而研磨基本只采用机械的方法,所使用的磨料粒度要比抛光用的更粗,即粒度大。 02 超精密抛光技术 超精密抛光是现代电子工业的灵魂 超精密抛光技术在现代电子工业中所要完成的使命,不仅仅是...
下面是各种研磨抛光工艺方法的具体介绍。一、什么是研磨?研磨是利用磨具与磨料,在一定的压力下对工件表面进行切削。产品工件可以是各种金属或是非金属材料,加工的表面形状有平面、弧形曲面、凹凸面、螺纹、齿面及其他异型面。 研磨的实现方式有人工和机械自动化处理,是表面处理的初步阶段,主要目的就是去氧化皮、...
一、化学机械抛光(CMP)基本概念 CMP,即化学机械抛光,是一种通过化学和机械相结合的方式对硅片表面进行精确研磨和抛光的技术。正是这一技术的硬件基础,它能够实现硅片表面的全局平坦化,为后续的工艺提供良好的基础。CMP设备是半导体制造领域的关键工艺设备。二、CMP设备行业发展状况和发展前景 1、CMP 设备基本情况 ...
东莞市贵华模具有限公司是广东一家经相关部门批准注册的可靠光学模具抛光加工厂家。主要业务范围:光学模具抛光、镜面抛光、省模抛光、磨钢料纹抛光等。