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杭州众硅推出首台6抛光盘CMP设备 8月14日下午,众硅TTAIS™300 暨国际首台6抛光盘CMP设备首发仪式在青山湖科技城隆重举行。 CMP设备全称化学机械平坦化(ChemicalMechanicalPlanarization,CMP)设备,是半导体晶圆表面处理的关键设备之一,也是目前最为普遍的半导体材料表面平坦化技术。本次首发的国际首台6抛光盘CMP设备是由...
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羊毛抛光盘是常见的抛光盘材质之一,它具有较强的切削力,特别适合处理较粗、较深的划痕或砂纸痕。羊毛抛光盘分为长羊毛和短羊毛两种,长羊毛盘更适合进行重切削操作。在使用羊毛抛光盘时,需要配合适当的抛光机和研磨剂,以达到最佳的抛光效果。 二、海绵抛光盘 海绵抛光盘是另一种广泛使用的抛光盘材质。海绵抛光盘...
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