光刻蚀(Photolithography)在微电子和光电子制造领域可是个大明星,它可是制造微细结构和芯片元件的关键技术哦!简单来说,它的原理就是利用光的化学和物理作用,通过光罩的设计和控制,把光影投射到光敏材料上,形成我们需要的图案。下面就让我来详细讲讲这个神奇的过程吧! 光敏材料涂覆 🧪 首先,我们得在待加工的基底表面...
原因:光刻胶机械强度不足(无法支撑结构);刻蚀过程中侧壁保护不足(如离子轰击损伤);热应力导致胶层变形。 解决:选用高模量光刻胶(如SU-8或硬掩模材料);采用Bosch工艺(脉冲刻蚀与钝化交替)保护侧壁;控制刻蚀温度及热负载。 5. 均匀性问题 现象:晶圆边缘与中心刻蚀速率差异大,或批次间重复性差。 原因:旋涂胶厚...
另外,刻蚀产生的温度也会加剧光刻胶的交联。 表面碳化 在有氧或氟的等离子体中,光刻胶表面会发生碳化反应,形成一层坚硬且致密的碳化层。这层碳化层能够保护光刻胶内部,而一般的气体无法突破这层碳化层,就难以除去剩下的光刻胶。 副产物沉积 有些干法刻蚀产生的...
“光刻”是指在涂满光刻胶的晶圆（或者叫硅片）上盖上事先做好的光刻板，然后用紫外线隔着光刻板对晶圆进行一定时间的照射。原理就是利用紫外线使部分光刻胶变质，易于腐蚀。“刻蚀”是光刻后，用腐蚀液将变质的那部分光刻胶腐蚀掉（正胶），晶圆表面就显出半导体器件及其连接的图形。然后用另一种腐蚀...
刻蚀机不能代替光刻机。光刻机的精度和难度的要求都比刻蚀机高出很多,在需要光刻机加工的时候刻蚀机有些不能办到,并且刻蚀机的精度十分笼统,而光刻机对精度的要求十分细致,所以刻蚀机不能代替光刻机。 2022-02-05 15:47:00 一文解析刻蚀机和光刻机的原理及区别 光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光...
刻蚀机 光刻机通过将模板上的图案缩小投影到芯片表面,从而实现图案的复制,其核心技术是激光微影技术。而刻蚀机则是通过化学反应将芯片表面的材料去除,从而达到所需加工形状的目的。 二、应用场景不同 光刻机主要用于制造芯片上的微小结构(如晶体管、电容等),以及半导体制造中的芯片加工,例如在集成电路制造过...
使用聚焦激光将图案直接写入涂有光刻胶的表面 提供高分辨率和灵活性 非常适合制作FOWLP所需的复杂图案 d...
半导体设备三光机,指的是在半导体制造过程中起着关键作用的三种光学技术:光刻、光检测与光刻蚀。这些技术广泛应用于芯片制造的各个环节,为现代电子产业的发展提供了强大的技术支撑。 光刻技术是半导体制造中最基础、最关键的一环。它利...
哈工大杨飘萍团队Nano Letters:光刻蚀法制备氧空位压电纳米片用于超声“解锁”肿瘤协同治疗 压电动力疗法(PzDT)是一种利用机械能触发压电材料极化的肿瘤治疗方法。在超声(US)的作用下,空化气泡破裂产生的巨大压力作为压电声敏剂的机械力来源...