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光刻板又叫光刻掩膜板或光罩,是光刻过程中原始图形的载体,通过曝光和显影过程,这些图形信息将传递到晶圆片上。光刻板包含了要在晶圆片上复制生成的图形,光刻板可以确定一工艺层所需的完整的管芯分布或者阵列。 什么是光刻板 光刻板 光刻板光刻板
2024年，一个美国网友在Quora上抛出一句让人摸不着头脑的问题：“没有美国的允许，中国咋敢私自研发DUV光刻板？”DUV光刻板，深紫外线光刻技术，芯片制造的“刻字机”，用193纳米的光源刻画电路，技术成熟，成本低廉，是全球芯片量产的支柱。可美国网友这话里透出的意思，却好像中国连摸这技术都得先经过他们点头似的。
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一块看似简单的光刻板,实际由二十多层精密结构组成,每层材料的选择与工艺处理都会影响最终成像质量。例如某12英寸晶圆厂曾因光刻板金属层厚度误差超标0.3纳米,导致整批7纳米芯片良率骤降12%。 基底材料通常选用合成石英玻璃,其纯度需达到6N级别(99.9999%)。这种材料的热膨胀系数要控制在0.5ppb/°C以内,确保在极紫外光...
光刻板又叫光刻掩膜板或光罩，是光刻过程中原始图形的载体，通过曝光和显影过程，这些图形信息将传递到晶圆片上。光刻板包含了要在晶圆片上复制生成的图形，光刻板可以确定一工艺层所需的完整的管芯分布或者阵列。在接近式或接触式光刻机中使用的光刻板上设计的图形与计划加工的图形相同，而在步进式投影曝光机中使用的...
2024年，一个美国网友在Quora上提出了一个令人啼笑皆非的问题："没有美国的允许，中国怎么敢私自研发DUV光刻板？"这个问题折射出某些西方人根深蒂固的霸权思维，然而中国的答案早已写在了自主创新的征程上。从90纳米到28纳米，从完全依赖进口到逐步实现自主研发，这条充满艰辛的道路，正是对这个傲慢提问的最好回答。...