接触式光刻机：是最早期的光刻机类型，通过将掩膜直接压在光刻胶上，使光线透过掩膜，形成光刻图案。由于接触方式可能导致掩膜和光刻胶的接触不均匀，从而产生一些缺陷，因此该类型光刻机已经逐渐被淘汰。 投影式光刻机：将掩膜和硅片放置在一定距离的投影光源下，利用透镜将掩膜上的图案缩小后投射到光刻胶表面，从...
在整个半导体芯片制造过程中,光刻是最复杂工艺,光刻工艺的费用约占芯片制造成本的1/3左右,耗费时间占比约为40-50%,光刻工艺所需的光刻机是最贵的半导体设备。光刻机可分为前道光刻机和后道光刻机。光刻机既可以用在前道工艺,也可以用在后道工艺,前道光刻机用于芯片的制造,曝光工艺极其复杂,后道光刻机主要...
3、电科数字 在先进制造方面，子公司跟轨道交通龙头公司供应信号控制产品，替半导体装备生产商提供光刻机的控制器。4、新莱应材 光刻机的相关工艺需要在超高真空以及特殊气体的条件下完成，公司真空产品的AdvanTorr品牌以及气体产品的NanoPure品牌均可以应用到光刻机的设备中，公司的用户中已经包含光刻机设备的制造商。5...
ASML是全球光刻机技术最先进的厂商，也是全球唯一能够生产用于制造7nm以下芯片的EUV光刻机的厂商，几乎独占中高端光刻机市场。ASML今年第二季度新增订单金额创历史新高，达到85亿欧元，实现了净销售额54亿欧元，毛利率为49.1%，净利润达14亿欧元。ASML预计2022年第三季度净销售额约为51亿~54亿欧元，毛利率约为49...
导读:外媒:光刻机开始“打脸”了! 在全球化日益紧密的今天,科技创新已成为国家竞争力的重要标尺。然而,在科技领域的激烈竞争中,中美之间的博弈尤为引人注目。自贸易战以来,美国针对中国高科技企业的打压手段层出不穷,尤其是在半导体这一“现代工业粮食”的关键领域,更是实施了前所未有的封锁策略。
这次引入High-NA EUV光刻机啊，对台积电来说可是个大好事儿！这台光刻机支持2nm量产，到2029年还支持1nm的量产呢！这样一来啊，台积电就能在未来几年内继续领跑芯片行业了！不过啊，这光刻机也不是想买就能买的。您知道吗，这光刻机的制造过程可复杂了，得用好多高精度的零部件和先进的技术才行。所以啊，这...
首先，咱们说说那些直接为光刻机服务的公司，它们就像是光刻机的“亲密战友”：光刻机概念公司 1. 永新光学：这是一家专门做光学元件和仪器的厂家，它们研发、生产、销售的光学部件，可是光刻机里不可或缺的小零件哦！2. 茂莱光学：这家公司提供的光学器件、镜头和系统，都是光刻机光学系统的得力助手，精密得很...
据台媒《经济日报》报道，全球第三台High-NA EUV光刻机即将落地台积电工厂。虽然前两台都卖给了英特尔，但后者买了也是浪费，因为后续还是要找台积电代工。众所皆知，台积电可是阿斯麦的超级VIP大客户，拥有80多台EUV光刻机，占据阿斯麦出货所有EUV数量的一半以上。相关数据显示，在全球前十大晶圆代工营收排名中，台积电...
光刻机（Mask Aligner)又名掩模对准曝光机，是芯片制造流程中光刻工艺的核心设备。芯片的制造流程极其复杂，而光刻工艺是制造流程中最关键的一步，光刻确定了芯片的关键尺寸，在整个芯片的制造过程中约占据了整体制造成本的35%。光刻工艺是将掩膜版上的几何图形转移到晶圆表面的光刻胶上。光刻胶处理设备把光刻胶旋涂...