接触式光刻机：是最早期的光刻机类型，通过将掩膜直接压在光刻胶上，使光线透过掩膜，形成光刻图案。由于接触方式可能导致掩膜和光刻胶的接触不均匀，从而产生一些缺陷，因此该类型光刻机已经逐渐被淘汰。 投影式光刻机：将掩膜和硅片放置在一定距离的投影光源下，利用透镜将掩膜上的图案缩小后投射到光刻胶表面，从...
在整个半导体芯片制造过程中,光刻是最复杂工艺,光刻工艺的费用约占芯片制造成本的1/3左右,耗费时间占比约为40-50%,光刻工艺所需的光刻机是最贵的半导体设备。光刻机可分为前道光刻机和后道光刻机。光刻机既可以用在前道工艺,也可以用在后道工艺,前道光刻机用于芯片的制造,曝光工艺极其复杂,后道光刻机主要...
首先，光刻机在微电子制造中最直接的作用就是图案转移。在硅片上制造出微电子器件，首先需要在光刻胶上刻画出所需的电路或结构图案。而光刻机就是完成这一步骤的关键设备。它能将光刻胶上的图案以极高的精度转移到硅片上，形成微小的结构和电路图案，为后续的制造流程打下基础。2. 制造微电子器件的必备 光刻机...
作为国产光刻机龙头上海微电子的二股东，张江高科砸下50亿元建设的EUV光源中试线，2024年底已实现250瓦功率输出。 虽然离ASML的500瓦商用标准还有差距，但能满足7纳米芯片试产需求。 国家大基金最新注资的3000亿元半导体专项，三分之一流向了这条产线。长春奥普光电与深圳新凯来联合研发的EUV物镜系统，定位精度做到0....
首先，咱们说说那些直接为光刻机服务的公司，它们就像是光刻机的“亲密战友”：光刻机概念公司 1. 永新光学：这是一家专门做光学元件和仪器的厂家，它们研发、生产、销售的光学部件，可是光刻机里不可或缺的小零件哦！2. 茂莱光学：这家公司提供的光学器件、镜头和系统，都是光刻机光学系统的得力助手，精密得很...
在半导体产业中，光刻机是制造芯片的核心设备之一，它决定了芯片的制程工艺和性能。随着全球半导体产业的快速发展，中国在光刻机领域的研发能力也日益增强。以下是中国光刻机研发能力最强的三家公司：1. 上海微电子装备有限公司（SMEE）上海微电子装备有限公司（简称SMEE）成立于2002年，是中国光刻机领域的领军企业。
1. ASML：ASML（荷兰阿斯麦）是目前全球最大的光刻机生产商，其总部位于荷兰费尔德霍芬，并在美国、日本、韩国以及中国等地设有分支机构。该公司拥有世界上唯一能够生产下一代极紫外线技术（EUV）设备的技术，并以此成为了行业翘楚。2. Nikon：Nikon是日本著名相机制造商，在半导体制造方面也具有显著实力。该公司主要...
接触式光刻机 二.步进重复/扫描光刻机(步进式也称之为投影式) 接触/接近式光刻机实现了亚微米工艺的实现,那么步进重复光刻机的出现推动亚微米工艺的发展以及进入了量产。步进重复光刻机利用22mm × 22mm的典型静态曝光视场和缩小比为5:1或4:1的光学投影物镜,将掩模版上的图形转印到晶圆片上。 步进重复光刻的...