ASML浸没式光刻机XT:1900i是建立在已建立的双链扫描平台上的。该平台的成熟技术降低了风险,提高了可靠性。更重要的是,双扫描平台的双级架构,加上XT:1900Gi提高的扫描速度600 mm/s的速度,达到每小时131个晶片的高容量吞吐量。XT:1900i使用了与XT:1700i相同的水解石浸没技术,并将其与一个新的、非常高的NA(1...
摘要:据EE Times网站消息,ASML Holding NV公司近日推出了用于40nm及以下节点的新型193nm浸入式光刻设备Twinscan XT1900i,新设备将会在2007年中期发货。 ASML表示,XT1900i新型浸入光刻机拥有1.35的数值孔径。而公司的竞争对手尼康公司在近期也推出了最新的193nm光刻设备NSR-S610C,它的数值孔径为1.3。XT1900i分辨率基本...
ASML推出新一代浸入式光刻设备XT1900i 维普资讯 http://www.cqvip.com
式光刻与双重图形.高K电介质/金属栅极,超低k电介质,高K SOl等技术.为了使双重图形技术用于32 nm节点.ITRS2006修正版提出了具体的要求.2007年ASML推出XT:1900I... 翁寿松 - 《电子工业专用设备》 被引量: 5发表: 2008年 The wonders of water. The article evaluates several water immersion technology includ...
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如果是我,我会选择i9220,首先屏幕很给力,拉风,霸气,拿出来有面子 希望采纳
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