材料的表面分析技术主要有3种:俄歇电子能谱分析(AES)、X射线光电子能谱分析(XPS) 、原子力显微镜(AFM),今天主要对比学习前两种。什么是电子能谱分析法?电子能谱分析法是采用单色光源(如X射线、紫外光)或电子束去照射样品,使样品中电子受到激发而发射出来(这些自由电子带有样品表面信息),然后测量这些电子的产额(强度)对其能量的分布,从中获得有关信息的一类分析方法
AES作为一种先进的电子束探针表征技术,在纳米级乃至更高精度的空间分辨要求上展现出了无法比拟的优势,因此非常适用于纳米尺度材料的表征。与扫描电子显微镜(SEM)和透射电子显微镜(TEM)等依赖电子束探针的技术相似,AES在电子束聚焦能力上表现出色,尤其是场发射电子束技术的融入,极大地提升了其空间分辨能力。图6生动展示...
②微量、痕量成分的检测:TOF-SIMS ③数μm级微区分析:AES ④深度剖析:AES、XPS、TOF-SIMS ⑤无机物的整体分析:EDX;无机物的薄膜(多膜层)分析:AES、XPS、TOF-SIMS ⑥样品表面损伤:EDX和AES破坏较重,XPS较弱,TOF-SIMS接近无损 五、样品的注意事项 另外简单归纳了几点样品的注意事项,实际的样品要求还需要根据测...
首先,XPS是利用X射线来激发样品表面的电子,通过测量这些电子的能量和数量来分析样品表面的元素成分和化学状态。而AES则是利用激发电子的原子内壳电子能级跃迁来获取样品表面的化学信息。因此,XPS和AES在激发源和测量原理上有所不同。 其次,XPS主要用于分析表面元素的化学状态、化学键和表面形貌等信息,对于表面分析和化学...
AES主要用于分析金属和半导体等导电材料的表面成分和电子结构。AES的应用领域包括金属薄膜的表征、光伏器件的表面化学分析等。 综上所述,X射线光电子能谱(XPS)和反射能量损失光谱(AES)是两种常用的电子能谱分析方法。它们通过照射样品表面并测量逸出电子能谱来获取有关材料表面成分和电子结构的信息。XPS广泛应用于材料...
AES和XPS样品表面离子束清洁刻蚀、离子溅射深度剖析是表面 分析中应用广泛的分析技术。离子扫描刻蚀时,需要使用相应技术规 范,校准离子束、确定刻蚀速率的方法基础标准,获得正确结果。 GB/T34326—2017,2017年首次发布,等同采标ISO16531:2013。2020 年ISO公布了修订版ISO16531:2020,对标准文本中作了多项技术性 ...
组分、杂质原子能带结构} 俄歇电子能谱（AES）{表面元素分析、结合能元素的原子价态、结合态} 真空紫外光电子能谱(UPS){电子结合能、电子结构} 电子能量损失谱(EELS){表面结构分析} X射线光电子能谱（XPS）用X射线做激发源去轰击样品，使原子或分子的内层电子受激发射出来，并直接测量二次电子的能量，这种能量...
1、AES具有很高的表面灵敏度,其采样深度为1～2nm,比XPS还要浅。更适合于表面元素定性和定量分析。 2、AES还具有很强的深度分析和界面分析能力。其深度分析速度比XPS要快得多,深度分析的深度分辨率也比XPS的深度分析高得多。常用来进行薄膜材料的深度剖析和界面分析。 3、AES还可以用来进行微区分析,且由于电子束束...
AES的深度分析功能是AES最有用的分析功能,主要分析元素及含量随样品表面深度的变化。采用能量为500eV～5keV的惰性气体氩离子溅射逐层剥离样品,并用俄歇电子能谱仪对样品原位进行分析,测量俄歇电子信号强度I (元素含量)随溅射时间t(溅射深度)的关系曲线,这样就可以获得元素在样品中沿深度方向的分布。
通过正确测定和解释AES的特征能量、强度、峰位移、谱线形状和宽度等信息,能直接或间接地获得固体表面的组成、浓度、化学状态等多种情报。 1. 定性分析 定性分析主要是利用俄歇电子的特征能量值来确定固体表面的元素组成。能量的确定在积分谱中是指扣除背底后谱峰的最大值,在微分谱中通常规定负峰对应的能量值。习惯...