1、URE2000S型紫外双面光刻机使用说明书产品编号:URE-2000S型紫外单双面深度曝光光刻机使用及维护指南感谢您购买本所设备,使用前请仔细阅读本说明书!安全警示 用户配备的电源插座,必须是符合国家标准具有保护接地功能的三孔插座,否则不能使用。使用仪器时,请检查所有的电缆是否正确、可靠连接。 严禁带电拔插与仪器有...
价格说明 联系我们 品牌 中科光电 尺寸 1300mm(长)x900mm(宽) x1800mm(高) 是否进口 否 加工定制 是 可售卖地 全国 用途 图形转移 类型 紫外双面光刻机 URE-2000S/35L(A)型紫外双面光刻机技术参数。曝光面积:6 英寸。光源:紫外 LED。曝光波长:365nm: 10-25mW/cm。分辨力:1μm。正面对准采...
URE-2000/35L 型紫外单面光刻机 主要技术参数: (1)曝光面积:100mm×100mm; (2)照明不均匀性: ≤3%( Ф100mm 范围); (3)分辨力:1.0 μm(胶厚 2.0 μm 的正胶,365nm 波长) (4)对准精度:≤±0.8μm; (5)掩模尺寸:2.5 英寸、3 英寸、4 英寸、5 英寸; ...
ure-2000系列紫外深度光刻机.pdf,UR E一2000系列紫外深度光刻机 中国科学院光电技术研究所 中国科学院光电技术研究所,是中国科学院在 刻中具有特色,对开展微电子、微光学、微机械系统、 西南地区规模最大的研究所,2001年整体进入中国红外器件、准LIGA及声表面波等器件的
URE-2000/35型紫外光刻机主要应用于半导体工业和微纳米技术领域,主要包括以下几个方面: 1、经典CMOS工艺。使用经典的CMOS工艺生产各种类型的集成电路。 高功率半导体激光器制造。紫外光刻机也能够生产用于高功率半导体激光器的掩模板。 2、生物芯片制造。生物芯片中的药品分析、生物传感器、基因测序等都需要使用紫外光刻...
紫外光刻机 URE-2000/34AL型光刻机,曝光分辨率: 0.8μm-1μm ,套准精度:±0.8-1μm 更多详细 紫外单面光刻机 URE-2000/35AL 型紫外单面光刻机,曝光面积:150mm×150mm;分辨力:1.0μm(365nm 波长),对准精度:≤±0.8μm 更多详细 紫外单面光刻机 URE-2000/30 型紫外单面光刻机,高倍率双目双...
URE-2000B 型紫外单面光刻机 1.技术参数 。曝光面积:100mmX100mm 。曝光波长:365nm 。分辨力:0.8μm(胶厚 2μm 的正胶) 。对准精度:± 0.6μm 。掩模样片整体运动范围:X:15mm;Y:15mm 。掩模尺寸:2.5 英寸、3 英寸、4 英寸、5 英寸 。样片尺寸:直径 ± 15mm--± 100mm(各种不规则片) 厚度0.1mm-...
ure2000-35al型紫外深度光刻机 更新时间:2024年10月15日 综合排序 人气排序 价格 - 确定 所有地区 已核验企业 查看详情 ￥1.00/台 广东深圳 紫外单面光刻机URE-2000/35AL 中科光电品牌 深圳市蓝星宇电子科技有限公司 2年 查看详情 ￥1.00/台 广东深圳 URE-2000/35 紫外单面光刻机 中科光电品牌 深圳市...
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URE-2000B 型紫外单面光刻机,曝光面积:100mmX100mm,分辨力:0.8μm(胶厚 2μm 的正胶)更多详细 紫外单面光刻机 URE-2000/35 型紫外单面光刻机,中科院设计生产,曝光面积:4 英寸 ,非常适合工厂(效率高,操作傻瓜型,自动化程度高)和高校教学科研 (可靠性好,演示方便) 。更多详细 ...