PECVD:CC-200Cz 在真空条件下,通过射频放电,让气体活化发生化学反应,在基板表面沉积形成薄膜。成膜种类:SiO2,SiNx ,SiON。等离子增强型,膜质好,均匀性高,Load-lock,托盘式,多基板尺寸,2inch-8inch 兼容。 具体购买政策请致电:0512-86669111-8150 李女士13913550251(沈先生) 购买咨询 产品介绍 产品特性 / Pr...
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PECVD:CC-200Cz 在真空条件下,通过射频放电,让气体活化发生化学反应,在基板表面沉积形成薄膜。成膜种类:SiO2,SiNx ,SiON。等离子增强型,膜质好,均匀性高,L… 了解详情 蒸发设备:蒸发Ei系列 ei-5z 1.Batch式高真空蒸发设备ei系列是可对应在基板上成金属膜或氧化物膜的设备。可通过操作面板进行集中控制,实现...