01.Productivity The TWINSCAN NXT:2000i boasts high productivity with reduced defectivity. The system’s champion productivity currently stands at 4,600 wafers per day, an achievement made possible by providing optional applications that allow the system to optimize scanner wafer processing time and red...
TWINSCAN NXT:2000i 包括一个 1.35 NA 193 nm 折反射投影镜头,可实现低至 40 nm(C-quad)和 38 nm(偶极子)的生产分辨率,以及支持全 26 x 33 mm 视场大小、4X减少和与现有设计的标线兼容性。 FlexRay Prepared Illuminator 扩展了传统和离轴照明的范围,以实现用于低 k1 成像的高级瞳孔整形。 03. 成像性能 ...
据报道,荷兰最新芯片出口管制措施9月1日生效,ASML最新表示,目前ASML已向荷兰政府提出TWINSCAN NXT:2000i及后续推出的浸润式光刻系统的出口许可证申请。“荷兰政府也已经颁发了我们截至9月1日所需的许可证,允许ASML今年继续发运TWINSCAN NXT:2000i及后续推出的浸润式光刻系统。” ASML表示,在新的出口管...
6月底荷兰出口管制新规新增了可用于制造7nm的TWINSCAN NXT:2000i、NXT:2050i 及 NXT:2100i等深紫外光(DUV)浸入式光刻设备。这一系列设备最高可支持5nm工艺。关注张江高科
ASML, the company known for producing equipment for the manufacture of processors and semiconductors at foundries, has started to ship its new Twinscan NXT:2000i DUV (Deep Ultra Violet) scanner that matches overlay performance of the company’s Twinscan NXE:3400B EUV (Extreme Ultra Violet) ...
根据ASML官网信息显示,该公司目前在售的主流浸没式DUV光刻机产品共有三款,分别是TWINSCANNXT:1980Di、TWINSCANNXT:2000i、TWINSCANNXT:2050i。 2023-09-04 16:48:35 ASML和IMEC宣布共同开发high-NA EUV光刻试验线 据悉,签署的谅解备忘录包括在比利时鲁汶设置imec测试线及asml的所有尖端光标及测量设备的服务。最新款...
荷光刻机巨头获准年内继续对华出口。荷兰最新芯片出口管制措施今天生效,目前ASML已向荷兰政府提出TWINSCAN NXT:2000i及后续推出的浸润式光刻系统的出口许可证申请。“荷兰政府也已经颁发了我... 快讯正文 荷光刻机巨头获准年内继续对华出口。荷兰最新芯片出口管制措施今天生效,目前ASML已向荷兰政府提出TWINSCAN NXT:2000...
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作者: 全部讨论 “荷兰政府也已经颁发了我们截至9月1日所需的许可证,允许ASML今年继续发运TWINSCAN NXT:2000i及后续推出的浸润式光刻系统。” →这是重点。 →市场之前说2000i Duv不能卖,现在继续卖了。 码农平头哥 广州小乞丐 萌萌记
包括TWINSCAN NXT:2000i及后续推出的浸润式光刻系统。 ASML还表示,上述规定是在9月1日生效。 ● TWINSCAN NXT:1980Di不受影响。 TWINSCAN NXT:1980Di的分辨率可以达到≤38nm。 14nm芯片是经过“多重曝光”完成。更先进的7nm芯片如果通过1980Di曝光的话,会导致良率陡然上升,成本提高。