常规液晶屏都是采用背沟道刻蚀型(BCE)TFT 显示像素的结构。具体结构见下图: 对背沟道刻蚀型TFT结构的阵列面板,根据需要制作的膜层的先后顺序和各层膜间的相互关系,其主要工艺流程可以分为 5 个步骤(5 次光照)。 第一层为Gate电极。 第二层为Gate绝缘层 第三层为Source/Drain电极 第四层为Contact Hole 第五层...
采用背沟道刻蚀型(BCE)TFT 显示像素的结构。具体结构见下图: 对背沟道刻蚀型TFT结构的阵列面板,根据需要制作的膜层的先后顺序和各层膜间的相互关系,其主要工艺流程可以分为 5 个步骤(5 次光照)。 第一步:栅极(Gate)及扫描线形成 具体包括:Gate 层金属溅射成膜,Gate 光刻,Gate 湿刻等工艺制程(各工艺制程的具...
TFT-LCD显示面板的制造过程是一系列精密的半导体工艺集成，以玻璃基板为核心。其工艺流程主要包括TFT panel process、CF process（彩色滤光片）、Cell process（液晶单元）和Module process（模组组装）。TFT panel process首先通过ITO薄膜在玻璃上形成导电线路，控制液晶分子的运动。采用背沟道刻蚀型TFT结构，...
TFT-LCD工艺流程 第二章 TFT 显示器的制造工艺流程和工艺环境要求 第一节 阵列段流程 一、主要工艺流程和工艺制程 (一)工艺流程 (二)工艺制程 1、成膜:PVD、CVD 2、光刻:涂胶、图形曝光、显影 3、刻蚀:湿刻、干刻 4、脱膜 二、辅助工艺制程 1、清洗 2、打标及边缘曝光 3、AOI 4、Mic、Mac 观测 5、...
常规液晶屏都是采用背沟道刻蚀型(BCE)TFT 显示像素的结构。具体结构见下图: 对背沟道刻蚀型TFT结构的阵列面板,根据需要制作的膜层的先后顺序和各层膜间的相互关系,其主要工艺流程可以分为 5 个步骤(5 次光照)。 第一层为Gate电极。 第二层为Gate绝缘层 ...
常规液晶屏都是采用背沟道刻蚀型(BCE)TFT 显示像素的结构。具体结构见下图: 对背沟道刻蚀型TFT结构的阵列面板,根据需要制作的膜层的先后顺序和各层膜间的相互关系,其主要工艺流程可以分为 5 个步骤(5 次光照)。 第一层为Gate电极。 第二层为Gate绝缘层 ...
一、取向工艺 取向工艺的目的是在TFT 和CF 基板上制作一层透明的PI 膜,经摩擦后,使液晶分子沿摩擦方向排列。其原理请自己查看相关文献。所以在这一块,有两个主要的工艺制程:PI 印刷和摩擦。 1、PI 印刷 PI(Polyimide)是一种透明的有机高分子材料,有主链和侧链,经涂布烘烤后,会牢固地附着在CF 和TFT 基板表面...
常规液晶屏都是采用背沟道刻蚀型(BCE)TFT 显示像素的结构。具体结构见下图: 对背沟道刻蚀型TFT结构的阵列面板,根据需要制作的膜层的先后顺序和各层膜间的相互关系,其主要工艺流程可以分为 5 个步骤(5 次光照)。 第一层为Gate电极。 第二层为Gate绝缘层 ...