型号 SU-8 2000系列 封装 纸箱 优势 实力厂家 口碑 客户口碑 售后 售后保障 规格 规格齐全 质量 质量保证 数量 999 批号 最新 品牌 苏州锐材 价格说明 价格:商品在爱采购的展示标价,具体的成交价格可能因商品参加活动等情况发生变化,也可能随着购买数量不同或所选规格不同而发生变化,如用户与商家线下...
锐材SU-8 Developer显影液 原包装X光射线胶片冲洗液 质量优 性价比高 ￥3200.00 查看详情 半导体材料 ZEP520A电子束光刻胶 锐材 电子专用材料 zep520a ￥4800.00 查看详情 pmma950电子束光刻胶PMMA 950系列 低温 锐材 化学试剂,工业用 ￥3400.00 查看详情 漂洗液RER 600 锐材半导体 化工能源 化学试剂 质量...
SU-8 2000被设计为一种永久性、高交联的环氧树脂材料,用传统的溶剂型抗剥离剂很难去除。MicroChem的去除剂PG将膨胀,并发射小交联SU-8 2000。然而,如果使用OmniCoat (30-100 nm),浸泡在去除剂PG中,可以使SU- 8 2000材料得到干净彻底的提升。如果不使用OmniCoat,则不能完全固化或硬烘焙SU-8 2000。 去除小交联S...
SU-8 2000是一种高对比度的环氧树脂基光刻胶,适用于微加工和其他微电子应用领域,需要厚、化学和热稳定的图像。SU-8 2000是SU-8的改进配方,多年来被MEMS生产厂家广泛使用。采用更快的干燥速度,更极性的溶剂体系,可改善涂层质量,提高工艺吞吐量。SU-8 2000有12种标准粘度可供选择。
microchem 光刻胶SU-8 2000系列性环氧负性光刻胶:SU-8 2025,SU-8 2035,SU-8 2050,SU-8 2075,SU-8 2000是一种高对比度的环氧树脂基光刻胶,适用于微加工和其他微电子应用领域,需要厚、化学和热稳定的图像。SU-8 2000是SU-8的改进配方,多年来被MEMS生产厂家广泛使用。采用更快的干燥速度,更极性的溶剂...
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SU8-2000系列光刻胶(photoresist)为永久性、高度交联的环氧材料,利用传统的剥离溶剂很难剥离, 晶元可以使用氧化酸性溶液如食人鱼刻蚀液,等离子灰化,反应离子刻蚀、激光烧蚀热解 存储 存储SU8-2000光刻胶于密闭容器中,置于阴暗、干燥并避免阳光直射温度控制在(4~21℃) 远离光源、酸性、热和火源。保质期为12个月 处...
SU-8 2000光刻胶通常用常规的UV(350-400 nm)辐射曝光,尽管建议使用i-line(365 nm)波长。 SU-8 2000也可能会受到电子束或X射线辐射的照射。 曝光后,交联在两个步骤中进行(1)在曝光步骤中形成强酸,然后(2)在曝光后烘烤(PEB)步骤中进行酸催化的热驱动环氧交联。 正常过程是:旋涂,软烤,曝光,PEB,然后显影。
SU-8 2000是一种高对比度的环氧树脂基光刻胶,适用于微加工和其他微电子应用领域,需要厚、化学和热稳定的图像。SU-8 2000是SU-8的改进配方,多年来被MEMS生产厂家广泛使用。采用更快的干燥速度,更极性的溶剂体系,可改善涂层质量,提高工艺吞吐量。SU-8 2000有12种标准粘度可供选择。