型号 SU-8 2000系列 封装 纸箱 优势 实力厂家 口碑 客户口碑 售后 售后保障 规格 规格齐全 质量 质量保证 数量 999 批号 最新 品牌 苏州锐材 价格说明 价格:商品在爱采购的展示标价,具体的成交价格可能因商品参加活动等情况发生变化,也可能随着购买数量不同或所选规格不同而发生变化,如用户与商家线下达成协议,以线下协议的...
锐材SU-8 Developer显影液 原包装X光射线胶片冲洗液 质量优 性价比高 ￥3200.00 查看详情 半导体材料 ZEP520A电子束光刻胶 锐材 电子专用材料 zep520a ￥4800.00 查看详情 pmma950电子束光刻胶PMMA 950系列 低温 锐材 化学试剂,工业用 ￥3400.00 查看详情 漂洗液RER 600 锐材半导体 化工能源 化学试剂 质量...
SU8-2000系列光刻胶(photoresist)为永久性、高度交联的环氧材料,利用传统的剥离溶剂很难剥离, 晶元可以使用氧化酸性溶液如食人鱼刻蚀液,等离子灰化,反应离子刻蚀、激光烧蚀热解 存储 存储SU8-2000光刻胶于密闭容器中,置于阴暗、干燥并避免阳光直射温度控制在(4~21℃) 远离光源、酸性、热和火源。保质期为12个月 处...
Microchem SU-8光刻胶 2000系列 型号SU-8 2000.5/2002/2005/2007/2010/2015 进口SU-8光刻胶系列,克服了普通光刻胶采用UV光刻深宽比不足的问题,在近紫外光(365nm-400nm)范围内光吸收度很低,且整个光刻胶层所获得的曝光量均匀一致,可得到具有垂直侧壁和高深宽比的厚膜图形。
SU-8 2000系列光刻胶 Microchem公司的SU-8 胶是一种负性、环氧树脂型、近紫外线光刻胶,它适于制超厚、高深宽比的MEMS微结构,适合i线,X-Ray,E-beam曝光。具有非常好的热稳定性、抗刻蚀性、高分辨率、高深宽等特点。对近紫外350~400nm波段曝光最为敏感。即使在非常厚的光刻胶曝光情况下,曝光均匀一致,可...
锐材SU-8 Developer显影液 原包装X光射线胶片冲洗液 质量优 性价比高 ￥3200.00 查看详情 半导体材料 ZEP520A电子束光刻胶 锐材 电子专用材料 zep520a ￥4800.00 查看详情 pmma950电子束光刻胶PMMA 950系列 低温 锐材 化学试剂,工业用 ￥3400.00 查看详情 漂洗液RER 600 锐材半导体 化工能源 化学试剂 质量...
查看详情 Lift-off光刻胶 LOL2000半导体材料 锐材 电子专用材料 ￥4500.00 查看详情 光刻胶 HD 4100系列 负性PI 聚酰亚胺 锐材半导体 质量保证 性价比高 ￥6500.00 获取底价 商品描述 价格说明 联系我们 是否支持加工定制 是 有效成分含量 99% 功能 耐高温,紫外负性剥离光刻胶 加工定制 是 价格 透明...
SU-8 2000抗蚀剂有十二种标准粘度。 本加工指南文件涉及四种产品:SU-8 2025,SU-8 2035,SU-8 2050和SU-82075。图1。 提供选择合适的SU-8 2000抗蚀剂和旋转条件以实现所需膜厚所需的信息。 推荐节目 1.)为基板直径的每英寸(25毫米)分配1ml的抗蚀剂。 2.)以100 rpm /秒的加速度在500 rpm下旋转5-10...
SU-8 2000光刻胶通常用常规的UV(350-400 nm)辐射曝光,尽管建议使用i-line(365 nm)波长。 SU-8 2000也可能会受到电子束或X射线辐射的照射。 曝光后,交联在两个步骤中进行(1)在曝光步骤中形成强酸,然后(2)在曝光后烘烤(PEB)步骤中进行酸催化的热驱动环氧交联。 正常过程是:旋涂,软烤,曝光,PEB,然后显影。
Microchem SU 8光刻胶 2000系列 25-75 型号SU-8 2025/2035/2050/2075 进口SU-8光刻胶系列,克服了普通光刻胶采用UV光刻深宽比不足的问题,在近紫外光(365nm-400nm)范围内光吸收度很低,且整个光刻胶层所获得的曝光量均匀一致,可得到具有垂直侧壁和高深宽比的厚膜图形 详细信息 Microchem SU 8光刻胶系...