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国产SU-82005/2010/2015/2025/2050/2075/2100/3050光刻胶 SU-8 2005(100ml) 品牌名称 LISM 京东价 ￥降价通知 累计评价 0 促销 展开促销 配送至 --请选择-- 支持 选择颜色 SU-8 2005(100ml) SU-8 2005(250ml) SU-8 2010(100ml) SU-8 2015(100ml) ...
SU-8 2005 5-8μm 100ml;250ml;500ml;1L MicroChem SU-8 负胶 SU-8 2007 7-13μm 100ml;250ml;500ml;1L MicroChem SU-8 负胶 SU-8 2010 10-20μm 100ml;250ml;500ml;1L MicroChem SU-8 负胶 SU-8 2015 13-38μm 100ml;250ml;500ml;1L ...
SU-8 2000光刻胶通常用常规的UV(350-400 nm)辐射曝光,尽管建议使用i-line(365 nm)波长。 SU-8 2000也可能会受到电子束或X射线辐射的照射。 曝光后,交联在两个步骤中进行(1)在曝光步骤中形成强酸,然后(2)在曝光后烘烤(PEB)步骤中进行酸催化的热驱动环氧交联。 正常过程是:旋涂,软烤,曝光,PEB,然后显影。
Microchem SU-8光刻胶 2000系列 型号SU-8 2000.5/2002/2005/2007/2010/2015 进口SU-8光刻胶系列,克服了普通光刻胶采用UV光刻深宽比不足的问题,在近紫外光(365nm-400nm)范围内光吸收度很低,且整个光刻胶层所获得的曝光量均匀一致,可得到具有垂直侧壁和高深宽比的厚膜图形。 详细信息 SU 8光刻胶系列...
应用分子动力学模拟软件Materials Studio构建SU-8光刻胶与Ni基底的界面结构,研究后烘温度对界面结合性的影响.结合工艺中所采用的后烘温度,模拟计算了338～368 K时Ni基... 杜立群,郭照沛,张晓蕾 被引量: 5发表: 2010年 Fe_3O_4纳米颗粒-SU8胶材料的电磁特性研究 近年来铁磁性Fe3O4纳米颗粒以其良好的导磁...
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