Three-dimension photonic crystals fabrication using SU-8 photoresist; SU-8光刻胶制作三维光子晶体 2. Effect of post exposure bake temperature on thermal swelling of SU-8 photoresist; 后烘温度对SU-8光刻胶热溶胀性及内应力的影响 3. By the method,the nickel micro-electroforming pattern was direc...
负性光刻胶补充资料:负性光刻胶 分子式:CAS号:性质:光加工是指以可见紫外光、X射线、电子束、或者离子束作为加工手段的材料处理工艺,具有加工精度高,容易自动化等特点,广泛用于集成电路和印刷电路板制造、印刷制版等领域。光加工用高分子材料指在光作用下材料物性或外形发生变化,以实现对被照材料本身或者被其覆盖...
基于SU-8厚胶镍模具制作及其尺寸精度控制研究 10. Over 8 years experience in Implant /Diffusion/ Etch/ Photo process. 8年注入/扩散/刻蚀/光刻经验。 11. photoresist controlled etch 光刻胶掩蔽控制腐蚀 12. An Out-Of-Plane Eletro-Thermal Polymer Actuator; 聚合物基(SU-8)面外运动电热微驱动器 ...