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1、光刻:制备掩膜版、旋涂光刻胶,采用常规365nm的波长曝光。可通过添加抗反射涂层到衬底上减少不必要的反射,以实现更准确的特征尺寸控制,同样地,SU-8也可以通过结合紫外线光刻技术和立体光刻技术,实现SU-8三维结构的制造。 2、去除:可采用热NMP、硫酸/过氧化氢或专门的去除剂(...
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苏州汶颢su-8光刻胶 据第三方机构智研咨询统计,2019年全球光刻胶市场规模预计近90亿美元,自 2010年至今CAGR约5.4%。预计该市场未来3年仍将以年均5%的速度增长,至2022年全球光刻胶市场规模将超过100亿美元。光刻胶按应用领域分类,可分为 PCB 光刻胶、显示面板光刻胶、半导体光刻胶及其他光刻胶。全球市场上不...
锐材SU-8 Developer显影液 原包装X光射线胶片冲洗液 质量优 性价比高 ￥3200.00 查看详情 半导体材料 ZEP520A电子束光刻胶 锐材 电子专用材料 zep520a ￥4800.00 查看详情 pmma950电子束光刻胶PMMA 950系列 低温 锐材 化学试剂,工业用 ￥3400.00 查看详情 漂洗液RER 600 锐材半导体 化工能源 化学试剂 质量...
月均发货速度:暂无记录 浙江 宁波市 ¥10000.00 等离子清洗机器去除光刻胶SU8厚胶设备 键合封装前样片清洁 烟台金鹰科技有限公司21年 月均发货速度:暂无记录 山东 招远市 su-8光刻胶价格信息不够给力?没有找到优质su-8光刻胶批发/采购信息?马上发布询价单...
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su8光刻胶参数 SU-8是一种具有高分辨率和良好机械性能的光刻胶。其参数如下: 1.粘度:SU-8的粘度通常为200-500毫帕秒(mPa·s),可以根据需要进行调整。 2.固化方式:SU-8通过紫外线(UV)或热固化来实现固化。 3.曝光能量:SU-8的曝光能量通常在350-400毫焦耳/平方厘米(mJ/cm²)之间,需要根据实际需求进行...
产品名称 SU8光刻胶 产品规格 100ml/250ml/500ml/1L 用途范围 用于加工浇筑PDMS微流控芯片用的光刻胶模具 是否进口 是 加工定制 是 包装规格 1kg 光刻胶型号1 SU8 2100 光刻胶型号2 SU-8 2150 光刻胶型号3 SU8 2005 光刻胶型号4 SU8 2007 光刻胶型号5 SU8 2010 光刻胶型号6 SU8...