4.2。根据查询X技术官网信息显示,su-8光刻胶的介电常数是4.2,损耗角正切为0.042。光刻胶是一种在半导体制造过程中广泛使用的光化学高分子材料,具有优异的光学、化学、机械性能,被用于制造集成电路和微电子器件。
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