采用真空电子束蒸发法制备TiO2/SiO2 双层减反射膜,实现宽波段范围内的低反射率,以满足砷化镓三结太阳电池对入射光的需求.主要研究了基片温度,电子束流和充氧量对TiO2,SiO2 单层膜性能(膜层厚度,折射率)的影响.研究过程中,按照三因素两水平的正交实验进行,用分光光度计对TiO2,SiO2 薄膜样品的折射率进行测试.实验...
采用电子束蒸发法在GaAs基底上淀积TiO2/SiO2双层膜,厚度分别为78nm和50nm。实测短波和中波相应的反射率极小值分别为0.37%和2.95%,与理论结果吻合较好。 关键词:薄膜光学;GaAs多结太阳电池;TiO2/SiO2双层减反射膜;电子束蒸发;折射率 Analysis of reflectance performance of TiO2/SiO2antireflection coatingon GaAs ...
GaAs多结太阳电池TiO2/SiO2双层减反射膜电子束蒸发折射率本文设计并制备了适用于砷化镓(GaAs)多结太阳电池的TiO2/SiO2双层减反射膜,通过实测反射谱来验证了理论设计的正确性.利用编程分析了TiO2,SiO2单层膜的厚度及其折射率对双层膜系反射率的影响.结果显示,在短波范围(300 ～600 nm),TiO2膜厚对反射率的影响要大于...
首先在晶体硅表面热氧化生长一层si02薄膜作为钝化层,然后在si0,薄膜上面制备一层Ti0'薄膜减小反射率,形成TiO2/si()2双层减反膜。使用这种方法制备的太阳电池可以得到较高的开路电压和很好的光电转换效率,且生产成本较低_7]。为了尽可能减小太阳光在电池表面的反射损失,需要对减反膜的膜厚和折射率做一些优化计算...
减反和自洁SiO2/TiO2双层膜中,SiO2的厚度范围取80～130nm,间隔10nm;TiO2的厚度范围取10～50nm,间隔10nm。模拟分析只是利用光伏玻璃的光学参数,不考虑光伏玻璃的绒面和压花面对透过率的影响。 取晶硅太阳电池的有效波长范围380～1100nm,根据光学薄膜软件的模拟结果计算出此范围下的有效透过率,不同膜层厚度下的透过...
减反和自洁SiO2/TiO2双层膜中,SiO2的厚度范围取80～130nm,间隔10nm;TiO2的厚度范围取10～50nm,间隔10nm。模拟分析只是利用光伏玻璃的光学参数,不考虑光伏玻璃的绒面和压花面对透过率的影响。 ???取晶硅太阳电池的有效波长范围380～1100nm,根据光学薄膜软件的模拟结果计算出此范围下的有效透过率,不同膜层厚度下的...
本发明SiO2/TiO2减反射膜的制备方法,具体操作步骤如下: 步骤1,将摩尔比为37.6∶0.17∶3.25∶1的无水乙醇、氨水、去离子水和正硅酸乙酯混合,搅拌均匀后在稳定环境下静置7天左右,得到碱催化的SiO2溶胶;SiO2溶胶的质量百分浓度为3%,SiO2溶胶的浓度对得到的SiO2薄膜(厚度为100nm左右)会产生影响;上述反应体系中,氨水为催...
PECVD法制备硅太阳电池SiN薄膜工艺研究进展 由于SiN薄膜具有SiO2,TiO2等薄膜无法相比的优点,越 来越广泛地用做硅太阳电池减反射薄膜,对其制备工艺研究更深入.在总结最近的研究状况的基础上,提出了PECVD(Plasma e... 冯炜光,刘翔,储清梅,... - 《云南冶金》 被引量: 7发表: 2009年 加载更多研究...
玻璃基SiO2-TiO2纳米孔薄膜 第32卷第22期2010年11月武汉理工大学学报JOURNALOFWUItANUNIVERS1TYOFI'ECHN0LOGYVl01.32No.22Nov.201013OI:10.3963,/}.issn.1671—4431.2010.22.043玻璃基SiO2.TiO2纳米孔薄膜董玉红,2,赵青南1,刘莹,缪灯奎,尚明君2,赵庆忠2,赵修建(1.武汉理工大学硅酸盐材料工程教育部重点实验室,武汉...
本发明公开了一种SiO2/TiO2减反射膜的制备方法,该方法先利用溶胶凝胶碱催化法和浸渍提拉法制备一层SiO2低折射率减反射膜,再将薄膜浸入钛酸丁酯前驱液中,最后置于去离子水中水解,从而将TiO2纳米材料直接引入SiO2减反射膜中.本发明的制备方法工艺简单,可操作性强,反应速度快,制得的减反射膜是将TiO2纳米材料直接引入...