可以反应。工业上用碳在电炉内还原二氧化硅制得粗硅。用氢气还原三氯氢硅或四氯化硅可制得高纯度硅。 粗硅的制取:SiO2 + 2C ==高温== Si + 2CO(气体) 粗硅转变为纯硅:Si + 2Cl2 ==△== SiCl4 SiCl4 + 2H2== 高温 可以反应。工业上用碳在电炉内还原二氧化硅制得粗硅。用氢气还原三氯氢硅或四...
CO+H2O=CO2+H2 还原剂的还原性大于还原产物的还原性,氧化剂的氧化性大于氧化产物的氧化性.听着有些别扭,但是这条规律是判断物质氧化还原性的基准.该反应中,还原剂是CO,还原产物是H2.因此可以知道还原性CO>H2,10,CO2 CO>H2 CO + H2O (高温）= CO2 + H2,1,氧化性SO2大于CO2大于SIO2 还原性H2...
H2SIO2 是酸 应该叫偏硅酸,我不知道怎么称呼它。si的化合价是正二价!
往CF4等离子体中加入少量的H2将导致硅和二氧化硅的刻蚀速率同时减慢。在中等的H2浓度下,H和F反应生成HF,HF刻蚀SiO2但并不刻蚀Si。同时,各向异性的不挥发性碳氟化合物薄膜的淀积过程得到增强。另一方面,SiO2表面反应生成的CO和CO2可以从系统中抽去,在Si表面确没有这些反应。因此,随着H2的加入,刻蚀SiO2和Si的选择比...
将离子轰击缩短到4秒钟成功地从硅表面去除了氧,但留下了残留的碳膜,从本质上改变了这个问题。在循环CF4连续偏压工艺之后,可以使用H2/氩等离子体来进一步去除残留的碳和氟并钝化表面。虽然增加第二次等离子体暴露使整个过程变得复杂,但是碳和氟的含量显著降低。
在湿氧气氛中,SiC与水蒸气发生反应生成SiO2、H2和CO。湿氧化条件下的反应通常会产生一些氢气和一氧化碳,同时形成SiO2层。 这些基本的氧化反应式描述了SiC在不同氧化条件下与氧化气体的反应过程。在SiC/SiO2界面处,碳的主要存在形式分以下几种。 1.C-Si键:在SiC晶体中,碳原子与硅原子形成了C-Si键。在形成SiO2...
氢气还原二氧化硅的温度，一般写作高温 具体温度没有确切数据，有资料说1000℃以愿绿西上，可靠性待查。
解答一 举报 SiO2中Si是+4价,O是-2价MgO中Mg是+2价,O是-2价SO3中S是+6价,O是-2价K2O中K是+1价,O是-2价Cu是单质,铜元素为0价H2是单质,氢元素是0价NaOH中Na是+1价,H是+1价,O是-2价O2是单质,氧元素是0价不懂再HI我! 解析看不懂?免费查看同类题视频解析查看解答 更多答案(2) ...
二氧化硅(sio2)无法直接与氢氧化钠固体发生反应,通常只能与氢氧化钠的水溶液发生反应,其化学方程式为:SiO2 +2NaOH +H2O=Na2SiO3 +2H2。 二氧化硅有晶态和无定形两种形态,自然界中存在的二氧化硅如石英、石英砂等统称硅石。纯石英为无色晶体,大而透明的棱柱状石英晶体叫做水晶,含微量杂质而呈紫色的叫紫水晶,浅黄、...