【题目】SiH4广泛用于微电H2电源子、光电子行业,用粗硅作原料熔融盐电源电解法制取硅烷LiCl-KC-LiH原理如图,下列叙述正确的是A.通入H2的一极为电解池的阳极,反应式为 H_2-2e^-=2H^+B.粗硅上反应: Si+4H^++4e^-=SiH_4↑C.为增强导电性,使用粗硅D.该反应的总反应为 Si+2H_2=SiH_4 ...
在这个过程中,硅氢化合物(SiH4)和氢气(H2)成为气体混合物,通常被称为硅热化学气相沉积(Si-HCVD)。这是一种低温沉积技术,用于生长非晶硅薄膜。 SiH4气体在高频电场中通过电离进行分解,产生硅离子(Si+)和氢离子(H+)。这些离子进一步与氢气反应,形成硅和氢的化合物,并在基底表面聚集。这些反应使硅原子以非晶的...
百度试题 结果1 题目SiH4加热或与氢气反应的化学方程式 相关知识点: 试题来源: 解析 硅烷加热:SiH4 ==△== Si + H2硅和氢气反应:Si + H2 ==高温== SiH4望采纳o,亲!不明白的追问我就好!反馈 收藏
在SiH4与H2的电离过程中,通常采用射频感应等离子体(RF-PECVD)来产生高质量的非晶硅薄膜。 SiH4是一种有机硅气体,其化学式为SiH4。SiH4具有很高的热稳定性和化学惰性,易于储存和运输。同时,在高频射频场下,SiH4可以被电离为正离子和自由电子,从而形成等离子体。而H2则起到了稀释气体的作用,使得SiH4能够更容易被电离...
氢气(H2)99.9-100%1333-74-0第三部分危险性概述物品危害分类:2.1(USA),易燃气体危险!高压可燃气体。与空气形成爆炸混合物。能快速引起窒息,头晕和昏睡。营救人员要穿戴自给式呼吸器。吸入:因缺氧,吸入后会造成窒息。在一定的浓度下可能会引起头痛,头昏,困倦,兴奋,唾液分泌过多,呕吐及昏迷。缺氧会造成死亡。皮肤与...
SiH4(g)+O2(g)→SiO2(s)+2H2(g) 2SiH4(g)+2NH3(g)→2SiNx(s)+5H2(g) 这个反应是PECVD中沉积氧化硅,氮化硅的常见反应。 掺杂的介质薄膜沉积 SiH4也可与掺杂剂源气体一起使用,如磷烷(PH3)或硼烷(B2H6),可生产BPSG,PSG等。例如: SiH4+PH3+O2APCVD/PECVD 300℃-500℃ PSG ...
sih4===加热===si + 2H2 SiH4
msds -200ppm sih4-h2 下载文档 收藏 打印 转格式 226阅读文档大小:302.4K7页apaihuai154上传于2015-03-25格式:PDF 计算机知识windows系统:开始--运行--命令大全0421050529第一期 热度: 女孩要富养--杨澜269 热度: SketchUp在小型建筑设计中的应用研究---优秀毕业论文参考文献可复制黏贴 ...
MSDS -200PPM SiH4-H2 下载积分: 200 内容提示: APK (SHANGHAI)GAS Co., LTD 艾佩科(上海)气体有限公司 地址:上海市闵行区闵北工业区 硅烷氢气混合气 物质安全数据表 一、物品与厂商资料 中英文物品名称:200ppm 硅烷在氢气中的混合气 (200ppm Silane in Hydrogen Mixture Gas) 物品编号:TNSSMS098 制造商...
当SIH4接触到水时，会发生反应，生成物包括硅酸沉淀和氢气。由于SIH4中的硅元素处于-4价，这是它的最低价态，它不具备氧化性，因此不会像N2H4那样发生氧化还原反应。具体反应方程式为：SIH4 + 3H2O = H2SIO3↓ + 4H2 在这个反应中，硅氢化物(SIH4)与水分子结合，形成硅酸(H2SIO3)沉淀，同时释放出...