楼主，当前研究有机硅的人，都是上了年纪的了，很多时候XPS比较少使用，所以资料比较少。Si-O-C ...
XPS谱图中有机物中Si-O-Si的键位
采用射频磁控溅射法在RB SiC陶瓷基片上制备了无定型Si-C-O-N涂层,利用XPS分析了涂层的组成元素以及相应的结合状态.结果表明:离子轰击对Si,C和N的化学位移影响较大:经过离子轰击后Si-C和Si-N键所占比例上升,而Si-O键则稍有减少;C sp2有所上升,而C-Si键和C-N键则有所下降;N-Si键上升,而N-C键略有下降...
本文采用 XPS 技术,对制备的无定型 Si-C-O-N 涂层进行了相关组成元素和结合状态的分析,为后续的研究工作奠定基础。1 实验Si-C-O-N 涂层采用上海有线电厂生产的型号为JG-PF-3B 射频磁控溅射仪来沉积。衬底和靶材分别采用市售的单面抛光的 RB SiC 陶瓷和自制的无压烧结的SiC 陶瓷, 尺寸分别为Ф38mm×3mm ...
采用射频磁控溅射法在RB SiC陶瓷基片上制备了无定型Si-C-O-N涂层,利用XPS分析了涂层的组成元素以及相应的结合状态.结果表明:离子轰击对Si、C和N的化学位移影响较大:经过离子轰击后Si-C和Si-N键所占比例上升,而Si-O键则稍有减少; C Sp<'2>有所上升,而C-Si键和C-N键则有所下降;N-Si... 查看全部>>...
谁能告诉我XPS中 C=O,C-H,C-Si,Si-O的键能啊? 5 我来答 分享新浪微博QQ空间举报1个回答 #热议# 你见过哪些90后家长教育孩子的“神操作”?GGYYWWY 2007-03-24 · TA获得超过150个赞 知道小有建树答主 回答量:838 采纳率:0% 帮助的人:0 我也去答题访问个人页 关注 展开全部 说...
Si基体上双层Ti—O薄膜的XPS和AES分析研究薄膜上再沉积同质薄膜.在膜表层一定厚度内可得到 具有化学配比的Ti02薄膜;氩离子的轰击使钛及碳氧化物内迁ASi基体,而Si外迁到膜内并 造成多价形式的Ti氧化物共存,TiO2在这些Ti氧化物中所占的比例髓沉积膜深度呈现先逐渐减 少而后叉逐渐增大的分布规律此外,氩离子的轰击...
Si-Ti-C-O纤维的XPS研究Si-Ti-C-O纤维的XPS研究 王亦菲;冯春祥;宋永才 【期刊名称】《宇航材料工艺》 【年(卷),期】1999(029)006 【摘要】运用XPS分析手段系统研究了Si-Ti-C-O纤维的组成及其结构,并与SiC纤维进行比较.讨论了引入Ti后纤维的组成与结构的变化及其与性能的关系. 【总页数】4页(P30-33) ...
Si supponga di utilizza il Visualizzatore di Microsoft XML Paper Specification (XPS) in un computer che esegue Windows 8.1 o Windows Server 2012 R2. Quando si tenta di stampare alcuni file XPS utilizzando XPS ...
alloy has revealed the presence of Si and Mg alloying elements. The intensity of the Si signal shows a clear tendency to decrease with the temperature below 300◦C, while the M 除Al和O信号以外著名的出现在所有氧化作用温度(图1),对未经治疗的A361合金的表面的XPS分析显露了Si和镁合金元件出现...