SFQR(Surface Flatness Quality Ratio)是硅片表面平坦度质量比,是衡量硅片表面质量的重要指标。在硅片加工流程中,SFQR通常用于评估硅片表面经过研磨、酸腐蚀和抛光等处理后的平坦度。硅片表面平坦度质量比越高,表明硅片表面越平坦,质量越好。 二、SF...
一种改善cis产品sfqr和esfqr工艺的制作方法 一、 在半导体制造业中,晶圆特性参数SFQR(SurfaceFlatness QualityRequirement)与ESFQR(EdgeSurface Flatness QualityRequirement)的稳定性直接影响芯片成品良率。通过某半导体企业项目实践发现,传统沉积工艺容易导致边缘形变累积,本文将系统性拆解工艺流程优化的六个核心步骤。 二...
网络平整度 网络释义 1. 平整度 ...5 总平整度(TIR)/µm,不大于 1.0 局部平整度(SFQR)/µm,(25*25)不大于 0.10 局部光散射体 LLSs(前表面) 个/cm 2 … www.docin.com|基于2个网页
SFPOE SFPORTS SFPP SFPPL SFPPP SFPQ SFPR SFPRG SFPRN SFPRO SFPS SFPSP SFPSS SFPT SFPU SFPUC SFPUG SFPV SFpvf SFPW SFQ SFQC SFQG SFQL SFQR SFQT SFR SFR&TA SFRA SFRAC SFRARP SFRB SFRBM SFRC SFRCCC SFRCI SFRCS SFRD
图2进一步说明,随着酸腐蚀去除量的增加,腐蚀后硅片局部区域的厚度差有增加的趋势,这也说明随着酸腐蚀去除量的增加,硅片表面的局部起伏加剧,这种局部起伏对后续的抛光过程是有一定影响的,会影响到抛光过程的材料去除速率,最终体现为抛光后SFQR的差异性。 酸腐蚀是一个各向同性过程,该过程没有方向性和选择性,随着腐蚀...
VT1185SFQR 类型1 标准 系列 标准 描述 IC接口控制器 包装 纸盘 应用 标准 工作环境温度 - 电压- 输入(最大值) 标准 封装/外壳 - 电压-电源 标准 电流- 电源 标准 电流- 输出 标准 输出配置 标准 电压- 输出(最大值) 标准 特征 标准 安装类型 - 制造日期代码 标准 交叉引用 标准 电压-输出 (最小...
1.一种改善cis产品sfqr和esfqr工艺,其特征在于:其改善的方法包括以下步骤: 2.根据权利要求1所述的一种改善cis产品sfqr和esfqr工艺,其特征在于:所述优化前esfqr工艺的功率配比数值分别cis产品底部为55.5%,cis产品内部为14.1%,且cis产品外部为16.7%。
型号 VT1185SFQR 价格说明 价格:商品在爱采购的展示标价,具体的成交价格可能因商品参加活动等情况发生变化,也可能随着购买数量不同或所选规格不同而发生变化,如用户与商家线下达成协议,以线下协议的结算价格为准,如用户在爱采购上完成线上购买,则最终以订单结算页价格为准。 抢购价:商品参与营销活动的活动价格,...
发货地 广东深圳 商品类型 电子元器件 、 集成电路(IC) 、 其他集成电路 商品关键词 VT1196SFQR、 V0LTERRA、 QFN 商品图片 商品参数 品牌: V0LTERRA 封装: QFN 批号: 2023 数量: 4585 RoHS: 是 产品种类: 电子元器件 最小工作温度: -40C 最大工作温度: 80C 最小电源电压: 2.5V 最...
一种改善CIS产品SFQR和ESFQR工艺专利信息由爱企查专利频道提供,一种改善CIS产品SFQR和ESFQR工艺说明:本发明公开了一种改善CIS产品SFQR和ESFQR工艺,其改善的方法包括以下步骤:S1、首先需要进行...专利查询请上爱企查