1.晶圆清洗:生产过程中,晶圆表面会沾染颗粒、化学残留、金属离子等污染物,DIW可用于冲洗和去除这些污染物,确保高纯度。在湿法清洗(如SC1、SC2、RCA清洗)中,DIW与化学药剂(如H₂O₂、NH₄OH、HCl等)配合使用,去除颗粒、有机物和金属离子。作为最终漂洗液,去除化学残留,避免污染。2.化学试剂的稀释:在光刻