rie-100离子刻蚀机 更新时间:2024年12月13日 综合排序 人气排序 价格 - 确定 所有地区 已核验企业 查看详情 ￥90.00万/台 湖北武汉 RIE反应离子刻蚀机PlasmaStar 100 等离子刻蚀机 表面处理仪 武汉迈可诺科技有限公司 2年 “rie-100离子刻蚀机”的结果有点少,为您展示“离子刻蚀机”的结果,您也可直接去问...
刻蚀机RIE-100 产品分类 原子层沉积系统(ALD) 刻蚀系统(RIE ICP ALE) 磁控溅射系统(PVD) 化学气相沉积系统(CVD) 光刻机(Mask Aligner) 集束型薄膜沉积系统(Cluster) 喷胶机 + 在线留言联系我们 详情描述 关键词: 高密度等离子体刻蚀机 双腔热型原子层沉积系统 ...
RIE-100型反应离子刻蚀系统是ME-3A/ME-6A型多功能磁增强反应离子刻蚀机的全新升级机型,设计更为简洁、紧凑,全自动化控制,触摸屏操作,加入了各种互锁功能及报警功能,更为安全可靠,操作简单方便。 系统特点: 1)He背冷结构可选配置; 2)自动化工艺控制; 3)多路气路:CHF3,CF4,SF6,O2等; 4)可选配摄像头,专用于...
PlasmaPro 100 RIE The PlasmaPro 100 RIE modules deliver isotropic and anisotropic dry etching for an extensive range of processes. It is suitable for research and production customers, providing a controlled environment that improves process repeatability with load-lock and cassette-to-cassette options....
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2. 反应离子刻蚀(RIE) 3. 可转换结构(包含可以进行各向同性和各向异性的等离子工艺)可拆卸的托盘构造。 等离子刻蚀机技术参数: 设备型号:PE-100 腔体尺寸:长方形腔体,长度305 x深度368 x高度305mm; 腔体材质:T-6铝合金一体成型; 腔体容积:34升;
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OPT-RIE100-W 产品特点: ◆对比普通环形光源实现更高均匀性照明 ◆为粗糙表面目标提供均匀照明,消除表面微小差异 ◆采用设计独特的漫射板,将光线经过反射和散射,形成双向、高度均匀 的圆对称光场,可以将物体表面细微差异造成的干扰过滤掉,凸显坡度 急剧变化特征...
刻蚀机RIE-100,机械手 简介(Description) 385个字符 (一般不超过200字符) 芯通通(北京)信息科技有限公司成立于2022年,公司宗旨是整合完善国产半导体装备产业化,建立国产装备核心设备的技术工艺,创造国产半导体装备的实用价值。公司现经营业务有半导体加工设备及工艺、集成电路核心自动化装备、半导体超高纯管阀件及实验室超...