反应离子刻蚀(RIE)是一种各向异性很强、选择性高的干法腐蚀技术,利用离子能量使被刻蚀层的表面形成容易刻蚀的损伤层,促进化学反应,同时离子还可以清除表面生成物,露出清洁的刻蚀表面。然而,这种刻蚀技术不能获得较高的选择比,对表面的损伤大,有污染,难以形成更精细的图形。 反应离子刻蚀设备广泛应用于半导体器件、电力...
型号 等离子刻蚀机(RIE)JL-V10 价格说明 价格:商品在爱采购的展示标价,具体的成交价格可能因商品参加活动等情况发生变化,也可能随着购买数量不同或所选规格不同而发生变化,如用户与商家线下达成协议,以线下协议的结算价格为准,如用户在爱采购上完成线上购买,则最终以订单结算页价格为准。 抢购价:商品参与营销活...
反应离子蚀刻(以下简称RIE)使用了化学和物理反应来移除衬底表面的材料,它是能产生定向蚀刻的最基本工艺 高度各向异性的蚀刻工艺能够通过RIE中伴随等离子化学反应蚀刻同时发生的带能离子轰击获得 RIE工艺之所以能够获得高度各向异性的蚀刻是因为朝向衬底轰击的离子受到了负偏置衬底的加速作用,同时衬底表面发生着高蚀刻速率的化...
How to Use Em Dashes (—), En Dashes (–) , and Hyphens (-) 'Sneaked' or 'Snuck': Which is correct? What's the difference between 'fascism' and 'socialism'? More Commonly Misspelled Words Words You Always Have to Look Up Popular in Wordplay ...
RIE反应离子刻蚀机中的刻蚀过程需要在真空环境下进行，因此设备内部有一个真空室。真空室通过抽气系统将气体抽成真空，使真空度达到所要求的工坐条件。离子源产生高能离子束，用于蚀刻材料表面。常用的离子源包括高频电离源和射频电离源。离子源通过加热或电离气体将气体转化为离子。供气系统用于提供蚀刻工艺所需的反应...
RIE育儿方法植根于独立和自主,旨在让您的孩子尽可能自给自足。 抚养孩子是一件很困难的事情。从新生儿阶段到青少年时期,养育子女是艰难的。这是一个挑战。好消息是,您可以将一些工具添加到您的武器库中,让您成为更好的父母。您可以采取不同的方法...
随着大规模集成电路制造朝着更高集成度、更小关键尺寸以及更大晶圆半径的方向发展,对刻蚀工艺的精度要求越来越高,所以湿法刻蚀的图形保真性不理想、刻蚀线宽难以控制、表面粗糙等不适用于小尺寸器件刻蚀工艺,进而催生出干法刻蚀工艺,本文主要介绍当今主流干法刻蚀机--RIE。 工作原理: 在低气压及放电管两极电场的作用下...
Qu'ilrie Que nous riions Que vous riiez Qu'ils rient 对应现在时复数第三人称:rient 变位说明 第3组动词 可用作:可作为不及物动词(Verb Intransitif) 可作为代动词(Verb Pronominal) 注意:当该动词作为代动词与se连用时,需要使用être作为助动词,其变位方法会与上述有所不同; ...
ICP-RIE全称是电感耦合等离子体刻蚀机,是半导体芯片微纳加工过程中必不可少的设备,可加工微米级纳米级的微型图案。
ICP-RIE的过程分为两个主要步骤: 1. 物理蚀刻:等离子体中的离子在电场的作用下向基底加速,通过离子与基底材料的直接碰撞,将基底材料物理剥离。 2. 化学蚀刻:等离子体中的活性自由基与基底材料发生化学反应,形成易挥发的化合物,这些化合物在抽气过程中被去除,从而实现材料的化学蚀刻。 ICP-RIE的线圈(coil) 线圈的...