RIE-800是RANKO公司新出品的一款HI-END入门级的入耳式耳机,她拥有龙格一贯成熟的设计理念-同轴圈铁概念,所制造出的还原音乐的神器。 (RIE-800)-宽阔的音域,雄壮的气势,高密度细节,就是大编织的乐团或是乐器独奏,都能干净利落地呈现在您的耳际之间...!! 商品标签...
RIE-800iP是一种高性能ICP(电感耦合等离子体)蚀刻系统,它使用高密度等离子体来执行光电器件和电子元件所需的化合物半导体或介电膜蚀刻. 独特的HSTC™线圈可产生均匀的高密度等离子体。最大功率为1kw(可选3kw),适用于ICP和Bias的射频等离子体源,用于高速蚀刻。大电导允许在低压环境下高气体流量。
Samco 的 RIE-800iPB 是一种电感耦合等离子体刻蚀设备,使用高密度等离子体进行 MEMS 和 TSV 应用所需的深度硅蚀刻。RIE-800iPB是为Bosch工艺设计的用硅蚀刻系统(由Robert Bosch GmbH授权)。该系统的反应室、电、平台和真空设计克服了在竞争系统中遇到的问题,可实现高速(约50 μm/min)、无倾斜、高剖面蚀刻,具有...
高密度等离子体刻蚀设备系统采用电感耦合等离子体作为放电形式。该系统配备了真空盒室,是一套完整的生产系统,具有优良的工艺重复性和稳定性。 详细介绍 1. 产品概述 高密度等离子体蚀刻系统采用电感耦合等离子体作为放电形式。该系统配备了真空盒室,是一套完整的生产系统,具有优良的工艺重复性和稳定性。 2. 设备用途/...
SAMCO ICP-RIE等离子体蚀刻设备 RIE-800iP是一种能够产生高密度等离子体的ICP(感应耦合等离子体)蚀刻系统。该系统具有高电导真空系统和精确的压力控制,允许在低压和高压以及低压和高压气流下进行处理。此外,有了新开发的Tornado ICP线圈,现在可以在高射频功率和高真空下保持稳定的等离子体。这些功能一起为用户提供了最...
内容提示: SAMCO RIE-800iPB 人機介面:人機介面: 1. 主畫面說明 A 區: BZ STOP – 警示音停止鈕 MODE – 操作模式 Time – 當前動作所剩餘的時間 Total Set – 當前動作預計要花費的時間 RCP – 將執行的參數組別 GROUP – 目前執行的 GROUP 組別 COUNT – 目前已執行的 LOOP COUNT 數 Set – 預計要...
PlasmaPro 800系列是结构紧凑、且使用方便的直开式系统,该系统为大批量晶圆和300mm晶圆上的反应离子蚀刻(RIE)工艺提供了灵活的解决方案。大尺寸的晶圆平台能够处理量产别的批量以及300mm晶圆的工艺。PlasmaPro 800系列是结构紧凑、且使用方便的直开式系统,该系统为大批量晶圆和300mm晶圆上的反应离子蚀刻(RIE)工艺提供...
英国Oxford 反应离子刻蚀机PlasmaPro 800 RIE,是结构紧凑、且使用方便的直开式系统,该系统为大批量晶圆和300mm晶圆上的反应离子蚀刻(RIE)工艺提供了灵活的解决方案。大尺寸的晶圆平台能够处理量产级别的批量以及300mm晶圆的工艺。 详细介绍 英国Oxford 反应离子刻蚀机PlasmaPro 800 RIE ...
PlasmaPro 800 RIE The PlasmaPro 800 offers a flexible solution for reactive ion etching (RIE) processes on large wafer batches and 300mm wafers, in a compact footprint, open-loading system. The large wafer platen allows for production scale batch processing and 300mm wafer handling....
型号 PLASMALAB 800 PLUS 加工定制 否 新旧程度 二手 是否现货 是 库存数量 3 晶圆尺寸 5英寸 设备年份 2006年 工艺类型 ETCHERS / ASHERS 工艺气体 5% SiH4/N2, N2, N2O 产品名称 二手刻蚀机 产品类型 刻蚀机设备 发货地 青岛 可售卖地 全国 品牌 OXFORD 价格说明 价格:商品在爱采购的展示...