另一方面,在离子鞘内,由于朝向电极形成-Vdc的电位斜率,来到plasma与离子鞘层的边界区的离子,由于被DC bias吸引而加速轰击wafer,此时离子所获得的能量是Vp+Vdc,即离子轰击的原理就在于此,也借由此才能获得etch的各向异性。 3.V_{dc}与电极板的关系 V_{dc} V_{dc} 的大小取决于电极的面积比。如图C所示,当...
射频发生器(RF Gen)输出一般是正弦波或脉冲,输出功率从几十瓦到几十千瓦,一般是由振荡电路,功率放大电路和滤波电路组成。Lam的机台一般有两个RF Gen, 分别为Bias RF 和 TCP RF,Bias RF 主要是用来调整plasma方向,TCP(Transformer Coupled Plasma) RF主要是增强plasma 的密度,从而实现选择性刻蚀。半导体常用频率为...
其原理是刻蚀气体(主要是F基和C1基的气体)通过气体流量控制系统通进反应腔室,在高频电场(频率通常为13.56MHz)作用下产生辉光放电,负气体分子或原子发生电离,形成等离子体(Plasma)。等离子体是包含足够多的正负电荷数目近于相等的带电粒子的非凝聚系统。而射频源正是产生高频电场的核心设备。 目前市场上,一台新的干法...
1.接纳电路的结构和工作原理: 接纳过程中天线把基站发送来电磁波转为弱小沟通电流信号经滤波,高频扩大后再送入中频内进行解调,得到接纳基带信息(RXI-P、RXI-N、RXQ-P、RXQ-N),再送到逻辑音频电路进一步处理。其电路结构:接纳电路由天线、天线开关、滤波器、高放管(低噪声扩大器)、中频集成块(接纳解调器)等电路...
RF 全称radio frequency,是一种高频交流变化的电流(交流电的频率在无线电的频率范围内),它不是电磁波,而是一种交流电。利用RF可以产生plasma,ETCH制程中RF 频率一般为2MHZ、13.56MHZ和60MHZ。了解RF可以产生plasma后,接下来介绍RF system的构成。关于plasma基本知识可移步1、等离子体基础知识介绍 ...
起辉流程RF&PlasmaConfidentialIgnitionsequence优化需求目的:对于目前刻蚀机台使用,规范工艺应用,制定流程,使客户工艺调试过程中避免出现射频异常报警。需求:目前客户较多,工艺复杂,包括工艺气体,功率,气压等条件使用各异,对刻蚀机使用要求更加苛刻。为使机台能够更加广泛的应用于各种工艺,需要对工艺应用指导进行优化。
原理:双极射频装置,在治疗过程中产生高效的射频能量,精确地升高治疗区域皮肤、皮下脂肪层的温度,刺激胶原蛋白的再生,使断裂的纤维束重新链接,能收紧皮肤及皮下组织,使皮肤恢复到产前的紧致,紧缩妊娠纹。 RFAL治疗妊娠纹的三大特点 第一 均匀收缩 第二 三维收缩 ...
Plasma=亂 電漿的定義 所謂電漿是指部分離子化的正負電荷與氣體分子並存的狀態(離子密度如何?)電漿中包括 中性原子負電荷(電子)正電荷(離子)具有活性的自由基因為能量而不斷發生的碰撞 電漿的產生 反應室充滿氣體與適當壓力之下 剛開始只有少數的游離電子 提供電場,離子化與碰撞開始發生 提供電場之後,電子會被加速,...
✓ 刻蚀气体(主要是CF4)通过气路系统通入反应腔室后,被射频电源产生的高频率电场(通常为13.56 MHz)电离从而产生辉光放电,完成从气体分子到离子的转变,形成等离子体(Plasma),提高气体反应活性。 ✓ 射频电源是等离子刻蚀设备的核心部件,为设备提供稳定的射频源,用于电离气态的化学刻蚀剂,直接关系到反应腔体中的等离...