晶圆刻蚀工艺中的Qtime管控 Qtime管控(Queue Time Control)是半导体制造过程中一个重要的和效率管理环节,尤其在刻蚀工艺(ETCH)中显得尤为重要。 一、Qtime的定义和重要性 Qtime(Queue Time)即“排队时间”,是指在生产流程中,某一工序或设备在接收到任务后,等待处理的时间。具体来说,Qtime是指晶圆在一个工序的前...
Q-time技术在半导体制造栅氧工艺中发挥了很好的作用,但是也存在一定的瓶颈,其主要问题是开发进度慢,系统架构复杂,对硬件的要求较高,存在难以控制的蒙特卡罗模拟应用,以及时间碎片化的问题。 要解决这些问题,首先可以通过开发具有高效能、高度可定制功能的硬件平台来加快Q-time技术的研究发展。为了简化系统架构,可以利用软...
工业生产:在某些工业生产环境中,“QTime”可能指代特定条件下的处理时间,即某个工序或流程所需的时间长度。 半导体制造:在半导体制造领域,“qtime”可能表示排队时间,即某个工序或设备前的等待时间。 综上所述,“QTime”的含义因领域而异,没有统一的定义。在理解和使用“QTime”时,...
追踪的等待时间。qtime的意思是一步一步到下一步跟踪的等待时间，它有最大时间或最小时间，半导管qtime的意思是半导管追踪的等待时间。
因此，栅氧工艺的Q-Time 控制在整个半导体工艺流程中异常关键且极具代表性。本文在产线现有工艺条件下，以栅氧到多晶硅工艺的Q-Time 控制作为切入点，设计了栅氧层工艺中的Q-Time 对自然氧化层生长及表面态影响的两个方面的实验，探讨了硅片在不同环境下Q-Time 对栅氧层的影响。测试结果表明，在硅片盒中充入纯...
在半导体制造的 55nm 制程工艺(55flow)中,许多步骤后都需要设置 Qtime(Queue Time,排队时间),目的是保证工艺稳定性、提升产品良率以及优化生产调度。以下是一些常见需要设置 Qtime 的步骤: 光刻相关步骤 光刻胶涂覆后:光刻胶涂覆在晶圆表面形成均匀的薄膜后,需要在一定时间内进行曝光工艺。如果排队时间过长,光刻...
因此,栅氧工艺的Q-Time 控制在整个半导体工艺流程中异常关键 且极具代表性。本文在产线现有工艺条件下,以栅氧到多晶硅工艺的Q-Time 控制作为切入 点,设计了栅氧层工艺中的Q-Time 对自然氧化层生长及表面态影响的两个方面的实验,探 15 讨了硅片在不同环境下Q-Time 对栅氧层的影响。测试结果表明,在硅片盒中...
因此,栅氧工艺的 Q-Time控制在整个半导体工艺流程中异常关键 且极具代表性。本文在产线现有工艺条件下,以栅氧到多晶硅工艺的 Q-Time控制作为切入 点,设计了栅氧层工艺中的 Q-Time对自然氧化层生长及表面态影响的两个方面的实验,探 讨了硅片在不同环境下 Q-Time对栅氧层的影响。测试结果表明,在硅片盒中充入...
摘要:随着集成电路器件性能的不断提高和技术的飞速发展,对半导体制造工艺条件的要求 也越来越严格。业界大多采用等待时间(Q-Time)控制来避免关键工艺步骤在制造过程中 10 因等候时间过长而受到洁净室环境的影响。栅氧层作为半导体器件重要组成部分,直接决定
1.一种半导体器件的形成方法,包括: 提供前端结构,所述前端结构具有暴露出来的铜金属线,所述铜金属线经过CMP处理;以及 采用碱性溶液清洗所述前端结构,去除铜金属线上的铜离子。 2.如权利要求1所述的半导体器件的形成方法,其特征在于,所述碱性溶液的pH范围是7-10。 3.如权利要求2所述的半导体器件的形成方法,其特...