相比热蒸发方法而言,PVD溅射方法能提高薄膜的粘附性,并且 台阶覆盖界面形状的可选择性比较强。PVD沉积TiW薄膜的主要工艺参数包括DC (direct current,直流)功率、氩气流量和沉积气压等。一般通过调整沉积气压可以实现TiW薄膜的 应力从张应力到压应力的调整,但是调整沉积气压会导致TiW薄膜的致密度等性质发生较 大变化。
介船 了残余压缩应力的性质和对薄膜性能的影响。指 出了控制残余压缩应力的途径 。 圭置词t残余应力,物理 气相沉积 一 、引 言 残余应力即没有外力作用的情况下,存在于构件 (如薄膜 )的内应力。对薄膜内应力的 研究t最早是Stoney在 1909年从 电镀膜开始的。5O年代 以后,许多人不断对各种薄膜 (包 括 PVD...
3、真空度:溅射腔体必须具备一定的真空度,一般≤5.0E-7Torr即可。真空度低,沉积的膜易被氧化或与某些残气反应,影响薄膜性质。 4、衬底温度:PVD工艺中一个重要因素。温度变化会影响膜的许多参数,如:应力、均匀性、电阻率及台阶覆盖、淀积速率等。 5、溅射功率:离子要轰击靶材必须具备一定的能量,这能量对不同的工...
CrN薄膜因其具有的良好的机械性能和抗腐蚀性能优势,被广泛用于切削和成型工具表面改性,在电弧离子镀系统中,基体可以保持在较低温度,不但不会影响材料的机械性能,同时能够大幅度提高硬度和耐磨损性能。理想的CrN薄膜是很致密的,在含有侵蚀性介质的环境中具有良好的抗腐蚀性能;然而实验过程中,PVD(电弧离子镀)方法制备CrN...