ALD 技术通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应室并在沉积基底上发生表面饱和化学反应形成薄膜。典型的热原子层沉积（TALD）技术是利用加热为薄膜沉积过程中的化学吸附提供活化能。④薄膜沉积设备技术之间对比 PVD为物理过程，CVD为化学过程，两种具有显著的区别。ALD也是采用化学反应方式进行沉积，但反应原理和工艺方式与CVD...
工艺经理(CVD\PVD\ALD等) - K· 薪 拉普拉斯能源技术 光伏 已上市 职位关闭 工艺工程师 - K· 薪 绿能慧充 储能 未融资 职位详情 咸阳 5-10年 本科 新能源 岗位职责: 1、本科及以上学历,具备7年以上CVD/PVD工艺经验,熟悉半导体及光伏相应的原理;对CVD/PVD机台机构及工艺调试非常了BOSS直聘解,具备工艺及...