必应词典为您提供prstrip的释义,网络释义: 光刻胶去除;光阻;
二、光阻剥离(PR Strip)完成掩膜使命后的光阻需彻底去除,否则残留物会导致:后续工艺污染(如金属沉积时引入缺陷)器件短路或断路(残留光阻阻碍导电层连接)可靠性下降(界面结合力劣化)剥离目标:彻底清除光阻,同时避免损伤硅片表面材料(如金属、氧化物、低k介质等)。
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Using a biased-ICP reactor for PR strip and Cu barrier removalFocuses on the significance of photoresist stripping during the cleaning of wafer semiconductors in Europe. Reduction of signal delays; Impact of gas mixture and gas composition on removal rates; Enhancement on the quality of the items...
Strippr(2018) Alex J. Spence Wilhelm Klempler Fog(2009) Nelson Vicens Mike Hunt Trap(I)(2024) MOVIEmeter Members only Become a member to access additional data Try IMDbPro Premium for free Ratings Breakdown 3 external links (official websites, website & more)...
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Strip工艺的基本原理是使用化学或物理方法来去除芯片表面的光阻层或其他材料。化学剥离涉及使用溶剂、酸或碱,而物理剥离可能包括干法如等离子体剥离。这需要精确控制各种参数,如温度、时间和化学剂浓度,以保证剥离效率并避免对基片造成损害。 3. 设备介绍 Strip工艺通常涉及以下设备: ...
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