《Plasma Chemistry And Plasma Processing》(《等离子化学和等离子处理》)是一本由Springer US出版的工程技术-工程:化工学术刊物,主要刊载工程技术-工程:化工相关领域研究成果与实践,旨在打造一种学术水平高、可读性强、具有全球影响力的学术期刊。本刊已入选SCIE来源期刊。该刊创刊于1981年,出版周期Quarterly。2023年发布...
《等离子化学和等离子处理》(Plasma Chemistry And Plasma Processing)是一本以工程技术-工程:化工综合研究为特色的国际期刊。该刊由Springer US出版商创刊于1981年,刊期Quarterly。该刊已被国际重要权威数据库SCIE收录。期刊聚焦工程技术-工程:化工领域的重点研究和前沿进展,及时刊载和报道该领域的研究成果,致力于成为该...
Plasma Chemistry And Plasma Processing创刊于1981年,由Springer US出版商出版,收稿方向涵盖工程技术 - 工程:化工全领域,此刊是中等级别的SCI期刊,所以过审相对来讲不是特别难,但是该刊专业认可度不错,仍然是一本值得选择的SCI期刊 。平均审稿速度 较慢,6-12周 ,影响因子指数2.6,该期刊近期没有被列入国际期刊预警...
Plasma Chemistry and Plasma Processing is an international journal that provides a forum for the publication of original papers on fundamental research and new developments in plasma chemistry and plasma processing. The journal encompasses all types of industrial processing plasmas, ranging from nonthermal...
Plasma Chemistry and Plasma Processing《等离子体化学与等离子体工艺》 (官网投稿) 简介 期刊简称PLASMA CHEM PLASMA P 参考译名《等离子体化学与等离子体工艺》 核心类别 SCIE(2024版), 目次收录(维普), 知网外文库,外文期刊, IF影响因子 自引率 主要研究方向工程技术-ENGINEERING, CHEMICAL工程:化工;PHYSICS, ...
Plasma Chemistry and Plasma Processing is an international journal that provides a forum for the publication of original papers on fundamental research and new developments in plasma chemistry and plasma processing. The journal encompasses all types of industrial processing plasmas, ranging from nonthermal...
PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING SCISCIE 等离子体化学和等离子体处理 ISSN:0272-4324 研究方向:工程技术 出版周期:Quarterly 是否OA:No ESSN:1572-8986 国际简称:PLASMA CHEM PLASMA P 创刊时间:1981 年发文量:96 出版地:UNITED STATES 官网:http://www.springer.com/physics/classical+continuum+physics/...
Publishing original papers on fundamental and applied research in plasma chemistry and plasma processing, the scope of this journal includes processing plasmas ranging from non-thermal plasmas to thermal plasmas, and fundamental plasma studies as well as studies of specific plasma applications. Such appli...
期刊名称 PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSINGPLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING 期刊ISSN 0272-4324 期刊官方网站 http://www.springer.com/physics/classical+continuum+physics/journal/11090 是否OA 否 出版商 Springer New York 出版周期 Quarterly 始发年份 1981 年文章数 78 最新影响因子 3.337(2021) ...
PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING影响指数:3.170 期刊ISSN:0272-4324 年文章数:91 国人占比:0.18 自引率:13.30% 版面费:US$3390 审稿周期:Quarterly 是否OA:否 JCR分区:Q2 中科院分区: Q2 出版国家/地区:UNITED STATES 是否预警:不在预警名单内