Plasma Chemistry And Plasma Processing创刊于1981年,由Springer US出版商出版,收稿方向涵盖工程技术 - 工程:化工全领域,此刊是中等级别的SCI期刊,所以过审相对来讲不是特别难,但是该刊专业认可度不错,仍然是一本值得选择的SCI期刊 。平均审稿速度 较慢,6-12周 ,影响因子指数2.6,该期刊近期没有被列入国际期刊预警...
PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING简称:PLASMA CHEM PLASMA P 大类:工程技术 小类:工程:化工 ISSN:0272-4324 ESSN:1572-8986 IF值:2.768 出版地:UNITED STATES 点击咨询相似期刊 声明:①本页面非期刊官网,不以期刊名义对外征稿,仅展示期刊信息做参考.投稿、查稿,请移步至期刊官网. ②如果您是期刊负责人且...
Plasma Chemistry and Plasma ProcessingEICAAJSCIEJST中科院3区JCR:Q2JCR:Q1 发文量2,433 被引量52,993 影响因子(2023)2.969 Plasma Chemistry and Plasma Processing is an international journal that provides a forum for the publication of original papers on fundamental research and new developments in plasm...
《Plasma Chemistry And Plasma Processing》(《等离子化学和等离子处理》)是一本由Springer US出版的工程技术-工程:化工学术刊物,主要刊载工程技术-工程:化工相关领域研究成果与实践,旨在打造一种学术水平高、可读性强、具有全球影响力的学术期刊。本刊已入选SCIE来源期刊。该刊创刊于1981年,出版周期Quarterly。2023年发布...
PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING影响因子(IF)3.337属于物理、流体和等离子体SCIE(Q2)区、物理,应用SCIE(Q2)区、工程、化学SCIE(Q2)区适宜化学、工程技术学者发表,PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING录用难度较易,审稿周期,历年影响因子分析、投稿官网地址等信
《等离子化学和等离子处理》(Plasma Chemistry And Plasma Processing)是一本以工程技术-工程:化工综合研究为特色的国际期刊。该刊由Springer US出版商创刊于1981年,刊期Quarterly。该刊已被国际重要权威数据库SCIE收录。期刊聚焦工程技术-工程:化工领域的重点研究和前沿进展,及时刊载和报道该领域的研究成果,致力于成为该...
IF范围: 中科院分区: SCI/SCIE: 是否OA期刊: 排列方式: 查询 重置 PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING 期刊详细信息 基本信息 期刊名称 PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSINGPLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING 期刊ISSN 0272-4324 期刊官方网站 http://www.springer.com/physics/classical+continuu...
Plasma Chemistry and Plasma Processing《等离子体化学与等离子体工艺》 (官网投稿) 简介 期刊简称PLASMA CHEM PLASMA P 参考译名《等离子体化学与等离子体工艺》 核心类别 SCIE(2024版), 目次收录(维普), 知网外文库,外文期刊, IF影响因子 自引率 主要研究方向工程技术-ENGINEERING, CHEMICAL工程:化工;PHYSICS, ...
Plasma Chemistry and Plasma Processing is an international journal that provides a forum for the publication of original papers on fundamental research and new developments in plasma chemistry and plasma processing. The journal encompasses all types of industrial processing plasmas, ranging from nonthermal...
plasma processing and chemistry b65-b78. printed in the A method of controlling plasma chemistry within a plasma processing apparatus is provided that includes the steps of providing a first magnetic field about a first injection region and providing a second magnetic field about a second ... D...