据ASML官网提供的信息，该公司目前在售的主流浸没式DUV光刻机产品共有三款，分别是：TWINSCAN NXT:1980Di、TWINSCAN NXT:2000i、TWINSCAN NXT:2050i。ASML 2023年3月曾表示，预计2000i和2050i这两款产品会受到荷兰政府的出口限制。再对比阿斯麦今天的回应来看，TWINSCAN NXT:1980Di这款浸润式DUV光刻机并不在限制范...
The TWINSCAN NXT:2050i is where state-of-the-art immersion lithography system design meets advanced lens design with anumerical aperture (NA)of 1.35 – the highest in the semiconductor industry right now. This step-and-scan system is a high-productivity, dual-stage tool designed for volume ...
ASML在官网发布声明称,其NXT:2050i及NXT:2100i光刻系统的出口许可证已被荷兰政府部分撤销,影响了中国大陆的一小部分客户。 ASML还称,公司在最近与美国政府的讨论中,获得了美国出口管制规定范围和影响的进一步厘清。美国去年10月17日公布的出口管制新规,对用于一些先进生产设施的某些次关键DUV浸没光刻系统施加了限制。
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【TechWeb】1月2日消息，据外媒报道，当地时间周一，荷兰半导体设备制造商阿斯麦（ASML）发表声明称，其NXT：2050i及NXT：2100i光刻系统的出口许可证已被荷兰政府部分撤销，这影响了中国大陆的一小部分客户。阿斯麦是荷兰的半导体设备制造商，总部位于荷兰的Veldhoven市，是全球唯一的极紫外（EUV）光刻机设备制造商，该...
2024年01月02日,icsmartcn,光刻机大厂ASML发布声明称,荷兰政府最近已经部分吊销了2023年发货NXT:2050i和NXT:2100i光刻系统的许可证,影响到了少数中国客户。 ASML预计,目前出口许可证的撤销或美国最新的出口管制限制不会对其 2023 年的财务前景产生重大影响。
TWINSCAN NXT:2050i 建立在面向未来的 NXT4 平台之上,突破了重叠限制,并为浸没式光刻系统提供了无与伦比的生产力。 TWINSCAN NXT:2050i 是最先进的浸没式光刻系统设计与先进的镜头设计相结合的地方,其数值孔径 (NA)为 1.35,是目前半导体行业中最高的。
虽然ASML目前在售的DUV光刻机中，有四种高端的浸润式光刻机，分别是NXT:2100i、NXT:2050i、NXT:2000i、NXT:1980Di，并且这四种光刻机最高都能够实现7nm芯片工艺，但是实现7nm工艺并不是简单的事情。除了需要使用这些高端的浸润式光刻机之外，还需要借助多重曝光技术来实现。而这种多重曝光技术目前存在三种不同的...
ASML在官网发布声明称,其NXT:2050i及NXT:2100i光刻系统的出口许可证已被荷兰政府部分撤销。公司在最近与美国政府的讨论中,获得了美国出口管制规定范围和影响的进一步厘清。 点评: 1、荷兰此举符合预期。23年9月1日荷兰将DUV 2000i及以上的光刻机向中国出口许可,延长至2024年1月1日,此次“部分撤销”是到期后的既...
2日讯,ASML在官网发布声明称,其NXT:2050i及NXT:2100i光刻系统的出口许可证已被荷兰政府部分撤销,影响了中国大陆的一小部分客户。ASML还称,公司在最近与美国政府的讨论中,获得了美国出口管制规定范围和影响的进一步厘清。美国去年10月17日公布的出口管制新规,对用于一些先进生产设施的某些次关键DUV浸没光刻系统施加了限...