因此，在没有EUV光刻机的情况下，为了生产较先进的芯片，不得不采用多重曝光技术。这主要是因为DUV光刻机的精度无法满足更精细的制程工艺要求。虽然这种方式可以提高制程工艺，但是它也带来了良率和成本方面的问题。至于5nm制程，由于DUV光刻机的精度限制，无法通过多重曝光技术实现。目前专业人士普遍认为，使用DUV光...
作者: 6月底荷兰出口管制新规新增了可用于制造7nm的TWINSCAN NXT:2000i、NXT:2050i 及 NXT:2100i等深紫外光(DUV)浸入式光刻设备。这一系列设备最高可支持5nm工艺。关注张江高科
The TWINSCAN NXT:2050i features a new immersion hood that reduces water loss, significantly improving defectivity performance. This translates to improved product yield and higher productivity through fewer slowdowns. 02. Optics This system features a 1.35 NA 193 nm catadioptric projection lens that c...