中国首台ASML NXT2000i正式入驻SK海力士无锡工厂 12月19日晚间,中国首台ASMLNXT2000i正式搬入SK海力士位于无锡的工厂。 据ASML证实,此次入驻SK海力士无锡工厂确为NXT2000i,也即NXT2000。ASML解释道,i 2018-12-21 14:08:53 光刻机工艺的原理及设备 量/需求量的上升。 现在所用的193nm光源DUV其实是2000年代就...
TWINSCAN NXT：2000i 实际上，就如同大家所知道的，ASML的EUV光刻（极紫外光刻）系统已经受限制。现在，部分最先进的浸润式DUV系统（即TWINSCAN NXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统）也遭受了限制，这显然是美国为了制裁中国半导体所采取的新手段。尽管ASML也做了回应，受到此次事件影响，限制了部分DUV光刻系统的出口...
The TWINSCAN NXT:2000i is a high-productivity, dual-stage immersion lithography tool designed for volume production of 300 mm wafers at advanced nodes. The system is equipped with an in-line catadioptric lens design, with a numerical aperture (NA) of 1.35 – the highest in the industry. This...
按照现在的情况看，asml的先进光刻机是不能提供维修工具了，其余的不受限制。是NXT:2000i及更先进的机型，不能提供，这个是关键。其实就是说，你能制造先进制程的机器，接下来的维修保养会遇到困难，老机器设备，可能国内也能自己维修了，所以不受限制？这样看，国内芯片制造肯定有一些突破，然后才能有这样的事情发...
集微网消息，12月19日晚间，中国首台ASML NXT2000i正式搬入SK海力士位于无锡的工厂。据ASML证实，此次入驻SK海力士无锡工厂确为NXT2000i，也即NXT2000。ASML解释道，i是immersion的意思。NXT2000都是immersion的机器。所以NXT2000即NXT2000i。据了解，无锡是SK海力士在中国的DRAM内存芯片生产基地，目前每月晶圆的产量约...
据外媒报道,光刻机霸主ASML(阿斯麦)已经开始出货新品Twinscan NXT:2000i DUV(NXT:2000i双工件台深紫外光刻机),可用于7nm和5nm节点。 NXT:2000i将是NXE:3400B EUV光刻机的有效补充,毕竟台积电/GF的第一代7nm都是基于DUV工艺。 同时,NXT:2000i也成为了ASML旗下套刻精度(overlay)最高的产品,达到了和3400B一...
据外媒报道,全球光刻机霸主ASML(阿斯麦)已经开始出货全新的深紫外光刻机Twinscan NXT:2000i DUV(NXT:2000i双工件台深紫外光刻机),可用于7nm和5nm节点。 据了解,NXT:2000i将是NXE:3400B EUV光刻机的有效补充,毕竟台积电/GF的第一代7nm都是基于DUV工艺。
这部分市场的需求很稳定,去年很稳定,未来也将继续保持稳定。 可以预计的是,2024年,ASML将不会获得向中国发运NXT:2000i及以上浸润式光刻机设备的出口许可证。 同时,个别中国先进芯片制造晶圆厂将无法获得发运NXT:1970i、NXT:1980i浸润式光刻机设备的出口许可证。
ASML是一家专注于光刻机研发和制造的企业,它开发的光刻机代表着目前世界最高水平,而现在这家光刻机巨头已经开始出货最先进的NXT2000i光刻机,未来将会用于全新的7nm和5nm的工艺。 ASML推出的NXT2000i光刻机光刻精度可以达到惊人的1.9nm,远低于5nm要求的2.4nm以及7nm的3.5nm精度。
TWINSCAN NXT:2000i 是一种高生产率的双级浸没式光刻工具,专为在先进节点批量生产 300 毫米晶圆而设计。 该系统配备了直列式折反射透镜设计,数值孔径 (NA) 为 1.35,是业内最高的。 该系统还包括用于改进叠加、焦点控制和交叉匹配的硬件创新。 专为与 EUV 混合搭配使用而设计,其模块化设计允许从前几代升级,并...