刻蚀设备:NLD-5700对应光学器件、MEMS制造的干法刻蚀装置NLD-5700是搭载了磁性中性线(NLD- neutral loop discharge)等离子源的量产用干法刻蚀装置。(此爱发科独创的NLD技术设备可实现产生低压、低电子温度、高密度的等离子)具体购买政策请致电:0512-86669111-8150 李女士13913550251(沈先生) ...
干法刻蚀设备NLD-5700 用于光器件和MEMS的NLD-5700干法刻蚀系统是配备磁中性线等离子体(NLD)源的用于大规模生产的干法刻蚀系统。 (采用磁中性线等离子体(NLD)的低压、低电子温度、高密度等离子体的干式蚀刻设备,由ULVAC原创开发。) 特征 通过在洁净室内工作,洁净室可以扩展到两个房间(NLD、磁场ICP、CCP和灰化室)。
ulvac nld-5700 等离子蚀刻机 议价 已售少于100 ￥13501.65点击查看更多配送: 江苏南京至 阳泉城区 快递: 89.00现货,付款后48小时内发货 保障:7天无理由退货查看更多 用户评价 参数信息 图文详情 本店推荐 用户评价 参数信息 品牌 无品牌/无注册商标 型号 见详情 售后服务 其他 适用机型品牌 其他 图文详情 本店...
对应光学器件、MEMS制造的干法刻蚀装置NLD-5700是搭载了磁性中性线(NLD- neutral loop discharge)等离子源的量产用干法刻蚀装置。(此爱发科独chuang的NLD技术设备可实现产生低压、低电子温度、高密度的等离子) 产品特性 / Product characteristics • 在洁净房内作业可扩张为双腔。(可选配腔室:NLD、有磁场ICP、CCP或者...
工艺:刻蚀 工艺介绍:干法刻蚀设备 设备:NE 系列;NLD 系列 型号:NLD-5700 代表器件/工艺制程:SiC沟槽刻蚀、GaN沟槽刻蚀、压电MEMS的PZT薄膜刻蚀、GaN-HEMT结构中的Gate形成 所属分类 半导体制造设备 联系我们 对应光学器件、MEMS制造的干法刻蚀装置NLD-5700是搭载了磁性中性线(NLD- neutral loop discharge)等离子源的...
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小***态 价格:4 地段:2 交通:2 配套:3 环境:3 目前价格是5700元/平方米,小区绿化还挺不错,空气质量相对较好,适合居住。 2018-09-05 15:27:55 来自PC楼盘详情页 举报 有用( 1 ) 微信 更多分享 <上一条下一条 > 我要回复 发布 其他网友点评(258条评论) ...
对应光学器件、MEMS制造的干法刻蚀装置NLD-5700是搭载了磁性中性线(NLD- neutral loop discharge)等离子源的量产用干法刻蚀装置。(可实现产生低压、低电子温度、高密度的等离子) 购买咨询 若想了解更多请致电182-2185-4021 产品特性 / Product characteristics ...
干法蚀刻设备NLD-5700 用于光学器件和 MEMS 的干法刻蚀设备 NLD-5700 是配备磁中性线等离子体 (NLD) 源的量产干法刻蚀设备。(使用 ULVAC *初开发的磁中性线等离子体 (NLD) 配备低电压、低电子温度和高密度等离子体的干法蚀刻设备。) 特征 通过在无尘室工作,可扩展至 2 个房间(NLD、磁场 ICP、CCP 和灰化室...